Gebraucht TEMPRESS Furnace #293746534 zu verkaufen
URL erfolgreich kopiert!
Tippen Sie auf Zoom
ID: 293746534
TEMPRESS Furnace ist ein hochmoderner Diffusionsofen für eine präzise und effiziente thermische Verarbeitung von Halbleitermaterialien. Dieser Hochleistungs-TEMPRESS-Ofen ist mit fortschrittlichen Funktionen und Zubehör ausgestattet, die eine gleichmäßige Temperaturverteilung, genaue Prozesskontrolle und robuste Zuverlässigkeit gewährleisten. Das Herzstück von Ofen ist sein Diffusionsrohr, das aus hochreinem Quarzmaterial gefertigt ist, um hohen Temperaturen und korrosiven Gasen standzuhalten. Das Rohr ist so konzipiert, dass es eine kontrollierte Umgebung für verschiedene Dotierungsvorgänge bietet, indem es über seine Länge ein stabiles Temperaturprofil beibehält. Dadurch wird sichergestellt, dass die Halbleiterscheiben während des gesamten Prozesses eine konsequente Wärmebehandlung erhalten, was zu sehr wiederholbaren und zuverlässigen Ergebnissen führt. Eines der Hauptmerkmale von TEMPRESS Ofen ist seine Mehrzonenheizung, die aus unabhängig gesteuerten Heizelementen entlang der Länge des Diffusionsrohrs besteht. Dies ermöglicht eine präzise Temperaturregelung und gleichmäßige Erwärmung über die Waferoberfläche, minimiert thermische Gradienten und sorgt für konsistente Prozessbedingungen. Der Temperaturbereich von Ofen kann an die spezifischen Anforderungen verschiedener Halbleitermaterialien und Verarbeitungsschritte angepasst werden. Um die Gleichmäßigkeit und Stabilität der Temperatur weiter zu verbessern, ist TEMPRESS Furnace mit einem ausgeklügelten Temperaturregelsystem ausgestattet. Diese Einheit verwendet Thermoelemente und Temperatursensoren, um die Temperatur innerhalb des Diffusionsrohres zu überwachen und die Heizelemente entsprechend einzustellen. Die Maschine kann Schwankungen in der Prozessumgebung automatisch kompensieren und sicherstellen, dass das gewünschte Temperaturprofil während des gesamten Bearbeitungszyklus erhalten bleibt. Der Diffusionsprozess in Ofen wird durch ein präzises Gasförderwerkzeug erleichtert, das den Eintritt von Dotierstoffgasen in das Diffusionsrohr steuert. Die Anlage umfasst Massenstromregler und Gasmischkammern, um die Dotierstoffgase mit den gewünschten Strömungsgeschwindigkeiten exakt zu mischen und abzugeben. Dadurch wird sichergestellt, daß die Halbleiterscheiben für die gewünschte Dauer der korrekten Konzentration von Dotierstoffen ausgesetzt werden, was zu präzisen und kontrollierten Dotierungsprofilen führt. Neben der Kerndiffusion TEMPRESS Ofen bietet TEMPRESS eine Reihe von Zubehör und Optionen, um die Leistung und Fähigkeiten des Modells zu verbessern. Dieses Zubehör umfasst Wafer-Ladesysteme, Prozessüberwachungswerkzeuge, Gasreiniger und Sicherheitsfunktionen, die den zuverlässigen Betrieb von Ofen in einer Reinraumumgebung gewährleisten. Das Unternehmen bietet auch kundenspezifische Dienstleistungen an, um TEMPRESS Furnace an spezifische Kundenanforderungen und Anwendungen anzupassen. Insgesamt ist Ofen ein zuverlässiges und vielseitiges Werkzeug für die thermische Verarbeitung von Halbleitermaterialien in Forschungs- und Produktionsumgebungen. Seine fortschrittlichen Eigenschaften, präzise Temperaturregelung und robuste Konstruktion machen es zu einer idealen Wahl für verschiedene Dotierungsverfahren, einschließlich Phosphordiffusion, Bor-Diffusion und Glühen. Mit seiner hohen Effizienz und Wiederholbarkeit ist TEMPRESS Furnace ein wertvolles Gut für Halbleiterhersteller und Forschungseinrichtungen, die überlegene Geräteleistungen und -erträge erzielen möchten.
Es liegen noch keine Bewertungen vor