Gebraucht ULVAC V10-100LC #9350452 zu verkaufen

ULVAC V10-100LC ist ein Diffusionsofen und Zubehör, das in einer Vielzahl von chemischen Prozessen eingesetzt wird. Es bietet eine präzise, tieftemperaturtechnische Umgebung für die Diffusion von Materialien in einem Verfahren, das als Low-Pressure Chemical Vapor Deposition (LPCVD) bekannt ist. Diese Art von Ofen wird hauptsächlich zum Anbau von dünnen Materialfilmen verwendet, die in der Halbleiterindustrie zur Herstellung von aktiven und passiven Komponenten verwendet werden. V10-100LC verfügt über ein einzigartiges Design, das eine Niedervakuumumumgebung nutzt, um einen Temperaturbereich von -50 ° C bis 800 ° C und ein niedriges thermisches Gefälle von 0,1 bis 0,2 ° C/min bereitzustellen. Das System umfasst einen fortschrittlichen digitalen Controller, der genaue Temperatur, Leistung und Drucküberwachung und -steuerung ermöglicht. Darüber hinaus umfasst der Ofen zwei Thermoelemente, eines zur Temperaturmessung und eines zur Druckmessung. Das einzigartige Design von ULVAC V10-100LC verfügt über ein mehrfach ummanteltes Quarzrohr, das die Abscheidung in einer vakuumarmen Umgebung ermöglicht, die physikalisch von anderen Teilen des Systems isoliert ist. Dies gewährleistet eine gleichmäßige Temperaturregelung im gesamten Ofen und einen konsistenteren Prozess. Darüber hinaus verwendet der Ofen ein Quarzheizelement, eine hocheffiziente Wärmedämmung und eine CAD/CAM-optimierte glockenförmige Abdeckung, um eine hervorragende Temperaturgleichmäßigkeit zu gewährleisten. Zu den weiteren Merkmalen von V10-100LC gehören die schnelle Kühlfähigkeit, hohe Emissionsfähigkeit und die Fähigkeit, eine automatische Abschaltung am Ende eines Prozesszyklus durchzuführen. ULVAC V10-100LC 's kleine Stellfläche, leichtes und robustes Design machen es zu einer großen Wahl für industrielle Anwendungen. Darüber hinaus wurde das System flexibel konzipiert und lässt sich problemlos an eine Vielzahl unterschiedlicher Produktionsprozesse anpassen. V10-100LC ist eine wirtschaftliche und vielseitige Lösung für die Tieftemperaturdiffusion unterschiedlichster Materialien. Der Niedertemperaturbetrieb, die hochpräzise Steuerung und das kompakte Design machen es zu einer guten Wahl für die Herstellung dünner Materialschichten in der Halbleiterindustrie und einer Vielzahl anderer Anwendungen.