Gebraucht ULVAC V10-100LC #9373107 zu verkaufen

ULVAC V10-100LC ist ein Diffusionsofen und dazugehöriges Zubehör für die Halbleiterherstellung. Es ist ein Werkzeug, das häufig in Laboren verwendet wird, um Verbindungen oder Dotierstoffe auf die Halbleiteroberfläche einzuführen, um ihre Eigenschaften zu modifizieren. V10-100LC ist speziell für das Low Pressure Chemical Vapor Deposition (LPCVD) Verfahren konzipiert. Dies ist ein Verfahren, bei dem eine Gasphasenreaktion verwendet wird, um einen dünnen Film über die Oberfläche des Materials abzuscheiden. ULVAC V10-100LC ist ein horizontaler, einziger Wafer-Stealth-Diffusionsofen, der große Volumengleichförmigkeitsanforderungen bewältigen kann. Es bietet eine präzise Kontrolle von Temperatur und Atmosphäre mit computergesteuerter Genauigkeit. Es liefert auch einen hohen Durchsatz, Gleichmäßigkeit, ausgezeichnete Wiederholbarkeit und kann entweder im geschlossenen oder offenen Betrieb betrieben werden, um eine geringe Erzeugung von Partikeln zu gewährleisten. Die Hauptbestandteile der V10-100LC sind das Quarzboot, das die Wafer und die Vakuumkammer hält. Es ist mit einer Reihe von Sicherheitsmerkmalen und temperaturempfindlichen Elementen ausgestattet, um unerwünschte thermische Veränderungen zu verhindern. Das System umfasst auch ein leistungsfähiges Heizelement und einen Regler, der eine präzise Temperaturregelung mit einer erwünschten Gleichmäßigkeit über die Kammer ermöglicht. Es verfügt auch über halbautomatische thermische Steuerung, die für verschiedene Prozessparameter wie Druck, Temperatur und Zeit eingestellt werden kann. ULVAC V10-100LC ist mit einer Vielzahl von erweiterten Design-Funktionen sowie entworfen. Dazu gehören Multi-Point-Sensoren, Echtzeit-Prozesssteuerung, mehrere Rezepturen und eine erweiterte Benutzeroberfläche, um eine benutzerfreundliche Umgebung zu gewährleisten. V10-100LC ist mit einem hohen Maß an Flexibilität ausgelegt, um verschiedenen Prozessanforderungen gerecht zu werden. ULVAC V10-100LC ist ein zuverlässiges, effizientes und einfach zu bedienendes System, das eine hervorragende Leistung für die Diffusion von Dotierstoffen auf Halbleiteroberflächen bietet. Es erzeugt hochgenaue Ergebnisse und bietet eine ausgezeichnete Gleichmäßigkeit und Wiederholbarkeit für breit gefächerte Anwendungen für die Herstellung von Halbleiterbauelementen.