Gebraucht TECHNICAL INSTRUMENT COMPANY KMS 310 #9117073 zu verkaufen

TECHNICAL INSTRUMENT Unternehmen KMS 310 ist ein hoch fortgeschrittenes, 0,25 nm Wellenlängen-Ellipsometer für Forschung und Entwicklung Anwendungen in den Bereichen Halbleitermesstechnik und Laborarbeit entwickelt. Es wurde entwickelt, um eine hohe Genauigkeit und Wiederholbarkeit bei der Messung von Dünnschichtdicke, Schichtzusammensetzung, Brechungsindizes und anderen optischen Parametern zu bieten. KMS 310 verfügt über ein vollautomatisches 4-Achsen-Design für höchste Präzision. Dadurch können Ellipsenparameter über einen weiten Winkelbereich mit großer Geschwindigkeit und Konsistenz genau überwacht werden. Das Gerät ist auch in der Lage, Frequenz-zu-Wellenlängen-Dienste und Mehrfachstrahltechniken zu analysieren, um Reflexionsdaten über einen erweiterten Bereich zu messen. Die Firma TECHNICAL INSTRUMENT KMS 310 wird von einem internen Spektrometer angetrieben, das Anwendern einen genauen und reproduzierbaren optischen Datensatz über den gesamten Bereich liefert. Die integrierte PEEK-Lateral-Scan-Stufe erfasst eine genaue 3D-Ellipsoid-Reflektivitätsabbildung des gesamten Filmstapels. Dies ermöglicht eine genaue optische Beurteilung von Dünnschichten und Dünnschichteigenschaften bei neuer Filmabscheidung und -entwicklung. KMS 310 bietet überlegene Leistung für anspruchsvolle optische Messtechnik-Prozesse. Der direkte Seitenverhältniswert wird durch den Einsatz eines MCVD (Multiple Channel Ellipsometer with Variable Measurement Delay) -Technologie verbessert. MCVD ermöglicht die variable Messung von bis zu vier Wellenlängenpositionen in einem einzigen Messzyklus, wobei eine winkelaufgelöste Analyse bis zu 0,1 ° zur Verfügung steht. Diese leistungsstarke Technologie ermöglicht es Anwendern, Filmstapel aus dem Sub-Nanometer-Bereich bis zum Sub-Millimeter-Bereich mit unglaublicher Genauigkeit zu analysieren. TECHNICAL INSTRUMENT Unternehmen KMS 310 bietet alles, was ein Instrument Anwender für die Forschung und Entwicklung von dünnen Filmen und Schichten im Labor braucht - höhere Winkelauflösung, verbesserte Genauigkeit auf dünneren Folien, schnellere Ergebniszeit, verbesserte Oberflächenanalyse und vieles mehr. Seine hohe Wiederholgenauigkeit und Genauigkeit machen es zu einem idealen Werkzeug für Nanofabrikationslabore und Laboratorien der Halbleiterindustrie.