Gebraucht ALCATEL / ADIXEN / PFEIFFER A601E #293633801 zu verkaufen

ID: 293633801
Deep Reactive Ion Etcher (DRIE) 4" wafer chuck with LN2 cooling capability and helium wafer backpressure Process gas setup: He, SF6, C4F8, O2, Ar, CHF3 Bay Voltex water chiller (2) Alcatel roughing pumps 2021SD for loading chamber 2063 C2 for process chamber Known issues: LF5 RF power generator will not apply power.
ALCATEL/ADIXEN/PFEIFFER A601E ist ein Ätzer/Ascher, der zum schnellen Ätzen und Reinigen von Abscheidungsflächen verwendet wird. Dieses Werkzeug ist besonders bei Abscheideprozessen wie physikalischer Dampfabscheidung (PVD) und chemischer Dampfabscheidung (CVD) nützlich. ADIXEN A601E bietet eine einzigartige Kombination aus Hochdruckätzen, Vorreinigungs- und Nachreinigungsfunktionen in einer einzigen, integrierten Plattform. ALCATEL A601E besteht aus einer Hauptätzkammer und mehreren weiteren Komponenten, einschließlich einer Vakuumprozesskammer, Substratübertragungs- und Transferkomponenten, einer Basisätzkammer, einem Ätzdruckmonitor und einer Nachätzkammer. Die Hauptätzkammer hält die Substrathalterung, die Prozesskammer und andere Komponenten. Die Prozeßkammer, die üblicherweise geschlossen ist und aus einer inneren Kammer und einer äußeren Kammer besteht, enthält inertes Prozeßgas, erhitztes Plasma und eine geerdete und/oder magnetisch gekoppelte Körperabschirmung. Ein Gasverteiler in der Nähe der Oberseite kann das Umschalten von Prozessgas im Inneren ermöglichen. Substratübertragungs- und Transferkomponenten umfassen ein Substratshuttle, das mit der Prozesskammer verbunden ist. Damit können Substrate oder Substratstücke von und zu PFEIFFER A601E transportiert werden; die Übertragung der Substrate kann mittels Fernbedienung oder manueller Steuerung erfolgen. Die Basisätzkammer hält und misst die Temperatur, den Druck, die Spannung und die Leistung des Substrats während des Ätzvorgangs. Dies kann dazu beitragen, Schäden am Substrat zu verhindern und optimale Ätzergebnisse zu gewährleisten. Ein Ätzdruckmonitor ist ebenfalls enthalten; er überwacht den Druck innerhalb der Hauptätzkammer und vergleicht ihn mit einem vorgegebenen Sollwert. Darüber hinaus ist auch eine Nachätzkammer enthalten. Damit wird das Substrat nach Abschluss des Ätzvorgangs gereinigt. Die Reinigung des Substrats erfolgt häufig mit einem Hochdruckgas wie Stickstoff oder Argon, so dass eventuelle Rückstände aus dem Ätzprozess sicher entsorgt werden können. A601E Ätzer/Ascher ist in der Lage, hohe Ätzraten und saubere Abscheidungsflächen in einer einzigen, integrierten Plattform bereitzustellen. Es bietet eine zuverlässige Kontrolle über Druck, Temperatur und Spannung und ist somit eine ideale Wahl für Ätz- und Vorreinigungsflächen in PVD- und CVD-Prozessen. ALCATEL/ADIXEN/PFEIFFER A601E ist mit seiner leistungsstarken Leistung, hohen Effizienz und Sicherheit eine ideale Wahl für Ätz- und Reinigungsflächen.
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