Gebraucht ALCATEL / ADIXEN / PFEIFFER AMS 4200 #9304661 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 9304661
Wafergröße: 6"
Weinlese: 2007
Etcher, 6"
(2) Dry etch chambers
With (1) E-chuck
BROOKS AUTOMATION Handler
(4) Chambers
Load / Unload station
(4) Pumps
Control units
(2) Chillers
PWD Cabinet / Scrubber
(3) Computer consoles
(2) LN2 Tanks
Process chamber 1:
Silicon oxide (RGV Dielectric) etch process module
RIE Source reactor
Substrate holder with E-Chuck, 6"
Bias 600 W LF
Reactor pump: ADP 122H and ATH 1600M on DN40 Throttle valve
Gas lines: CF4, O2, CHF3, He
Process chamber 2:
Silicon etch process module
ICP Plasma source
Cryo temperature process
Cryogenic substrate holder
With mechanical clamping chuck, 6"
Source: 3 kW RF
Auto matching network
Laser view port adapter
Pumping line to pump down the substrate holder
He backside cooling
Bias 300 W RF
LN2 Controlled cooling
Dewar LN2 tank
PM ADP 122 Reactor pump
ATH 1600M Maglev turbo pump
DN200 Heated throttle
Cold trap
Gas lines: SF6, O2, O2, N2
Handling platform:
BROOKS AUTOMATION MX 600 Platform with MAG 7 robot
6-Sided platform:
(2) Process modules
(2) Cassette modules
(2) BROOKS AUTOMATION VCE6 Cassette modules
Electrical cabinet
RF Generator
PLC
Breaker
Control module
End point detection
Accessories
Etch module with gas cabinet: CF4, O2, CHF3, He, Ar, N2
Etch module with gas cabinet: SF6,O2, O2,N2
BROOKS MX 600 Handler platform
(2) Control cabinets
Power distribution cabinet
(2) ADP122H Fore pumps
(2) A100L Fore pumps
(2) Chillers
Transformer, 125 KVA
GUI, (3) Consoles
Gas abatement, centrotherm
Manuals
Cables
Hoses
Computer
Endpoint detectors
2007 vintage.
ALCATEL/ADIXEN/PFEIFFER AMS 4200 Ätzer/Ascher ist eine präzise Plasmaätz- und Aschevorrichtung für eine breite Palette von Dünnschichtmaterialien. Es wird zur Herstellung von hochwertigen geometrischen Formen, Richtungsmustern und Strukturen mit hoher Genauigkeit verwendet. Das System ist ideal für Sputter-, Ätz- und Reinigungsprozesse. Das Gerät verfügt über ein hochkompaktes Profil und eine breite Palette innovativer Funktionen, die auf die Anforderungen der heutigen Ätz- und Reinigungsanforderungen zugeschnitten sind. Seine fortschrittliche Ätztechnologie ermöglicht präzise, wiederholbare Plasmaätz- und Ascheprozesse, die in der Lage sind, sehr feine Profilgeometrien zu erreichen. Die Maschine verfügt über eine sehr kurze Bearbeitungszeit und bietet durch ihre automatisierte Werkzeugsteuerung gleichzeitig eine hervorragende Prozesssicherheit. Die Anlage ist speziell auf die Genauigkeit und Wiederholbarkeit ausgelegt, die für das Sputtern, Ätzen und Reinigen von Dünnschichtmaterialien erforderlich ist. Es verfügt über eine breite Palette von Reinigungsmöglichkeiten, die von isotropem Ätzen bis zu selektivem Ätzen reichen. Die fortschrittliche Ionenstrahl-Abscheidung und gepulste Verarbeitungssysteme ermöglichen die Herstellung sehr feiner und konsistenter Ätz-/Aschemuster. Seine offene Kammerausführung bietet einen uneingeschränkten Blick auf den Prozess und gleichzeitig eine konstante Umgebung, die während des gesamten Ätz-/Ascheprozesses eine hohe Gleichmäßigkeit gewährleistet. Das Modell bietet auch eine breite Palette von Optionen für Flexibilität und Anpassung. Sie weist eine einstellbare Strömungsdüse auf, die die Maximierung des Wirkungsgrades der dem Substrat zugeführten Partikel ermöglicht. Darüber hinaus verfügt die Anlage über eine vollautomatische Prozesssteuerung, die eine hohe Wiederholbarkeit und Konsistenz während des Ätz-/Ascheprozesses gewährleistet. Dieser Prozessregler ermöglicht es Benutzern, das Plasmaätz- und Ascherezept für bestimmte Materialien anzupassen und so ein Höchstmaß an Ätz- und Ascheeffizienz zu gewährleisten. ADIXEN AMS 4200 Ätzer/Ascher ist ein fortschrittliches und zuverlässiges Ätz- und Aschesystem, das Anwendern eine Vielzahl von Vorteilen bieten kann. Es bietet eine höhere Genauigkeit und Wiederholbarkeit bei Ätz- und Ascheprozessen und gleichzeitig extrem kurze Prozesszeiten. Seine offene Kammer Design und Prozess-Controller ermöglicht eine größere Flexibilität und Anpassung, so dass Benutzer optimale Ergebnisse für ihre Ätz- und Ascheprozesse erhalten.
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