Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS 8116 #9226745 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS 8116 ist ein Plasmaätz- und Aschersystem, das für mittlere bis hohe Serien ausgelegt ist. Es ist in der Lage, die Ätz- und Aschebedürfnisse mehrerer Branchen zu bedienen, darunter Halbleiter-, Mikroelektronik- und MEMS-Anwendungen. Das Plasmaätz- und Aschersystem AMAT 8116 verfügt über eine fortschrittliche Plasmaätztechnologie und eine integrierte Top-Down-Waferreinigung. Damit ist es eine zuverlässige und effiziente Wahl für Plasmaätz- und Ascherräumlichkeiten. APPLIED MATERIALS 8116 verfügt über einzelne Vakuumkammern, die jeweils bis zu 8 Wafer gleichzeitig verarbeiten können. Jede Kammer hat eine eigene Steuerung und Vakuumquelle, die ein unabhängiges Ätzen jedes Wafers ermöglicht. Auf diese Weise können Ätz- und Aschersysteme mehrere Chargen gleichzeitig mit unterschiedlichen Ätzparametern verarbeiten, was zu verbessertem Durchsatz und Produktivität führt. 8116 verfügt über die Verwendung von HF-Leistung für die Plasmaerzeugung, sowie eine Zwei-Plasma-Quelle, um interne Reflexionen zu verhindern, die durch Einzelquellen-Designs verursacht werden können. Es ist in der Lage, in mehreren Gasen zu ätzen und kann eine breite Palette von Ätzraten und Selektivitäten erzeugen. Die Flexibilität von AMAT/APPLIED MATERIALS 8116 ermöglicht den Einsatz in einer Vielzahl kritischer industrieller Anwendungen, einschließlich Materialbearbeitung, Verpackung auf Waferebene und fortschrittlichen Fertigungsprozessen. AMAT 8116 verfügt zudem über einen Bottom-Up-Wafer-Belademechanismus und einen dynamischen Kammerdruck, der eine präzise Steuerung von Ätzprozessen ermöglicht. Dadurch kann es zur Herstellung von empfindlichen Strukturen wie Siliziumoxid- und Nitridfilmen sowie zum Ätzen von Gräben mit hohem Seitenverhältnis eingesetzt werden. Seine Fähigkeit, Ätzprozesse über mehrere Wafer durchzuführen, macht es zu einem wichtigen Werkzeug für die Halbleiterherstellung. Darüber hinaus enthält APPLIED MATERIALS 8116 einen einzigartigen In-situ-Wafer-Reinigungsprozess, der die Kammer nach jedem Zyklus mit einem Ätzgas reinigt. Dadurch wird die Kammer sauber gehalten und ein Wiederzirkulieren von Gasen bei Ätzvorgängen verhindert. Dies reduziert das Risiko einer Kontamination und sorgt dafür, dass Ätzprozesse über mehrere Wafer hinweg konsistent sind. Dies trägt zur Gesamtqualität und Zuverlässigkeit des Ätzprozesses bei. Insgesamt ist 8116 ein leistungsfähiges und zuverlässiges Ätz- und Aschersystem, das für mittlere bis hohe Serien ausgelegt ist. Es ist in der Lage, gleichzeitig bis zu 8 Wafer zu handhaben und verwendet fortschrittliche Technologie, um konsistente Ätzprozesse und Sauberkeit der Kammer zu gewährleisten. Seine Flexibilität und In-situ-Reinigungseigenschaften machen ihn zu einem unverzichtbaren Werkzeug in der Halbleiterindustrie und vielen anderen Branchen.