Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS 8300 #9261704 zu verkaufen

AMAT / APPLIED MATERIALS 8300
ID: 9261704
Poly etcher.
AMAT/APPLIED MATERIALS 8300 Asher/Etcher ist ein leistungsstarkes Werkzeug, mit dem Anwender schnell hochpräzise Strukturen und Oberflächen für viele Anwendungen herstellen können. Die Ausrüstung verfügt über eine Vielzahl von Funktionen, die die Leistung, Vielseitigkeit und Sicherheit verbessern. AMAT 8300 Asher/Etcher basiert auf einem kostengünstigen, einseitigen Ultrahochfrequenz-Hochfrequenzgenerator (UHF-RF) und kann 1000 Watt Heizleistung aufbringen. Es hat einen Arbeitsdruck von 10 - 500 mBar und kann bis zu 12 verschiedene Rezepte gleichzeitig laufen lassen. Das System ist sowohl mit Gas- als auch mit flüssigen Ätzmedien kompatibel. APPLIED MATERIALS 8300 Asher/Etcher verfügt über eine hochpräzise XY-Achsen-Bewegungseinheit zur präzisen Oberflächenabscheidung des Substrats. Es hat auch einen feinen z-Achsen-Ansatz, der eine leicht einstellbare Schichthöhenregelung ermöglicht. Es verwendet auch ein unabhängiges hochfrequentes internes Reflektometer, um Echtzeit-Rückkopplung auf das Reflexionsvermögen des Substrats zu liefern. 8300 Asher/Etcher ist sowohl für die Prozessentwicklung als auch für die Produktion mittlerer bis großer Teile ausgelegt. Es verfügt über eine 12-Zoll-isolierte Kammer, genügend Platz zum Laden in große Produkte und ein Color-Touch-Display, das die Plasma-Prozessparameter in Echtzeit überwacht. Es hat auch eine lineare Glastür zum einfachen Be- und Entladen von Substraten. AMAT/APPLIED MATERIALS 8300 Asher/Etcher umfasst eine einzigartige Sicherheitsverriegelungsmaschine, die zur Vermeidung eines versehentlichen Betriebs entwickelt wurde, und ein automatisches Abbruchwerkzeug, das gefährliche Bedingungen in der Kammer erkennt. Diese Ressource bietet auch eine elektronische Überwachung und Steuerung der Prozessparameter und gewährleistet die Herstellung hochwertiger Teile. AMAT 8300 Asher/Etcher kann zum Ätzen und Aschen von Substraten aus verschiedenen Materialien wie anorganischen, Halbleiter- und Kohlenstoff-basierten Materialien verwendet werden. Es bietet ein hohes Maß an Prozesskontrolle, ermöglicht einfache Rezepturänderungen und bietet eine präzise Oberflächenabscheidung. Dieses Modell ist eine ideale Wahl für viele verschiedene Ätz- und Ascheanwendungen.
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