Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS 8330 #9070196 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS 8330 Ätzer ist ein GCIB-basiertes Ätzsystem, das bei niedrigen Temperaturen arbeitet. Diese fortschrittliche Ausrüstung ist speziell für Hochdurchsatz-Plasmaätzprozesse konzipiert und ermöglicht eine überlegene Kontrolle über die Ätzkonfiguration, um eine Vielzahl von Anwendungen zu ermöglichen. Im Vergleich zu anderen Ätztechnologien bietet die GCIB eine verbesserte Kantenprofilsteuerung, weniger Aufladung, verbesserte Sauberkeit, verbesserte Gleichmäßigkeit, reduzierte Schäden und effizienteres Ätzen. AMAT 8330 Ätzer hat eine 400 mm Prozesskammer und ist mit einem automatisierten Makrolift für einfaches Be- und Entladen ausgestattet. Seine 1300 Watt HF-Leistung sorgt für höhere Durchsätze und exakte Profilkontrolle beim Ätzen. Das Ätzgerät nutzt für verschiedene reaktive Ionenätzverfahren (RIE) eine Vielzahl von Gasen wie Sauerstoff, Chlor, CF4 und CHF3. Die Prozessparameter können präzise eingestellt werden, wie Gaskonzentration, Druck, Durchfluss, HF-Leistung und Vorspannung. Aufgrund seiner vielseitigen Prozessfähigkeit kann der Ätzer APPLIED MATERIALS 8330 zum Ätzen verschiedener Materialien wie Silizium, Silizide, Polyimid usw. verwendet werden. Diese hochmoderne Ausrüstung eignet sich ideal für Anwendungen in der Halbleiterherstellung, wie Chipleiterbahnen, und komplizierte integrierte Schaltungen. Es eignet sich auch zum Ätzen von fortgeschrittenen Materialien wie kristalliner SiGe, III-V-Verbindung, SiNx und nitridbasierten Vorrichtungen. 8330 Ätzer verfügt über eine benutzerfreundliche grafische Benutzeroberfläche, die eine einfache Überwachung und Anpassung des Prozesses ermöglicht. Es umfasst auch ein In-situ-Reinigungssystem, das die Wartung einer hohen Sauberkeit zwischen den Prozessabläufen ermöglicht. Dies führt zu geringeren Ausfallzeiten und verbesserter Prozessstabilität und Wiederholbarkeit. Der Ätzer ist auch mit prädiktiven Überwachungsfunktionen ausgestattet, um eine Echtzeitanalyse des Ätzprozesses zu ermöglichen und einen reibungslosen Betrieb und maximalen Benutzerfreundlichkeit zu gewährleisten. Abschließend ist AMAT/APPLIED MATERIALS 8330 Ätzer ein fortschrittliches Gerät, das für Ätzprozesse in der Halbleitertechnologie entwickelt wurde. Dieser Tieftemperaturätzer bietet überlegene Leistung, Wiederholbarkeit und Effizienz bei der Verarbeitung einer Vielzahl von Materialien. Die benutzerfreundliche Oberfläche, das In-situ-Reinigungssystem und die vorausschauenden Überwachungsfunktionen ermöglichen einen reibungslosen Betrieb und eine optimale Wiederholbarkeit. AMAT 8330 Ätzer bietet somit eine effiziente Lösung für verschiedene Plasmaätzprozesse.