Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centris DPS MESA #9204005 zu verkaufen

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ID: 9204005
Etcher Unit-EFEM: Qty / Maker / Model / Ass'y / P/N (1) / CYMECHS / Duraport / LPM / 104851 (1) / KAWASAKI / 3TT22013-A002 / Robot / - (1) / KAWASAKI / 30D60E-A217 / Robot controller / - Unit-Main power: Qty / Maker / Model / Ass'y / P/N (1) / - / Condor UVR AC Rack / AC Rack / 0195-06523 (1) / - / Remote AC Rack / AC Rack / 0180-04470 Unit-TM: Qty / Maker / Model / Ass'y / P/N (1) / BROOKS / ICP8 / Robot / 0031-00334 Unit-PM: Qty / Maker / Model / Ass'y / P/N (6) / AM AT / Mesa / ETCH CH / - (6) / EDWARDS / STP-XA3203CV / TMP / - (6) / EDWARDS / SCU-1500 / TMP Controller / - (6) / VAT / Series651 / TGV / - (6) / AE / Paramount3013 / Generator / - (6) / - / Paramount1513 / - / - (6) / AE / Navigator / Match / - (6) / - / Navio / - / - (84) / BROOKS / GF125CXXC / MFC / GF125C AXIOM(ASP): Qty / Maker / Model / Ass'y / P/N (2) / AE / 3151802-003 / Power supply / 0920-00130 (2) / MKS / VODMC33CRIBE / Vapor on demand module / - ICP Source: HW Component / G5 / G5 Minos / G5 Mesa Lid heater / C-Shaped / O-Shaped / O-Shaped RF Feed / Standard / Standard / Concentric FE-ICP Field enhanced ICP / N.A. / Add on / Built-in integrated part of the design Inner / Outer coils current phase / Single-mode in / Single-mode in / Dual-mode in-phase / Out-of-phase Grounding plate / Standard / Standard / Symmetrical RAD Radial assembly dial / Optional / Optional / Motorized - MRAD integrated part of the design Cathode: ESC / G3 / G3.9 / G3.9 RF Feed / Standard / Concentric / Concentric Plasma screen / Standard / Flow equalizer / Flow equalizer LPM: CYMECHS Duraport 104851 EFEM Robot: KAWASAKI 3TT22013-A002 EFEM Robot controller: KAWASAKI 30D60E-A217 RF Generator: ADVANCED ENERGY Paramount3013 0190-33822-001 ADVANCED ENERGY Paramount3013 0190-33823-001 Source match: ADVANCED ENERGY Navigator 0190-28484-001 ADVANCED ENERGY Navio 0190-28484-001.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centris DPS MESA ist ein Ätzer/Ascher für kritische Halbleiterätz-/Ascheprozesse. Es ist ein automatisierungsfähiges Werkzeug, das die globalen Anforderungen an Genauigkeit, Wiederholbarkeit und Sicherheit erfüllt und den Betrieb mit mehreren Schiffen und mehreren Zonen unterstützt. AMAT Centris DPS MESA verwendet eine fortschrittliche Ozon Delivery Equipment (ODS) und Dual-Plasma Self-Aligning (DPSA) -Technologie, die ein präzises Ätzen und Aschen der komplexesten Merkmale auf Halbleiterscheiben ermöglicht. Das DPS MESA verfügt über eine erweiterte Temperaturregelung, um ein optimales thermisches Profil während des gesamten Prozesses zu erzielen, und seine einzigartigen Optionen für Automatisierung und Rückverfolgbarkeit helfen, den Durchsatz zu verbessern und die FAB-Auslastung zu maximieren. Das automatisierte Prozessleitsystem des Werkzeugs ermöglicht eine robuste Überwachung und Steuerung des Prozesses, was schnellere Ätzraten und eine bessere Prozessgenauigkeit ermöglicht. Ein fortschrittlicher Gasschrank zum schnellen Umschalten von Gasen sowie ein integrierter Flüssigkeitsregler mit Direktantrieb bieten konsistente Ätzergebnisse und minimierte Prozessdrift. Die DPSA-Funktion ermöglicht auch zusammengesetzte Ätz-/Ascheoperationen, die genau auf Kundenanwendungen zugeschnitten werden können. Die hohen Vakuumkapazitäten des Geräts sorgen für einen sauberen und wiederholbaren Prozess. Die integrierte fortschrittliche Evakuierungsmaschine entfernt den größten Teil des während des Ätz-/Ascheprozesses entstandenen Gases und Rauchgases und die leistungsstarken Schrupp- und Diffusionspumpen reduzieren die Prozesszykluszeiten. Das Tool ist so konzipiert, dass es in ein Cluster-Tool integriert wird, das die gleichzeitige Bearbeitung mehrerer Wafer ermöglicht, und das optionale Pre-Mapping-Asset ermöglicht eine optimale Beispielplatzierung für einen schnelleren Durchsatz. Der integrierte Generator des Modells ermöglicht die Fernsteuerung des Geräts und seine erweiterten Sicherheitsfunktionen schützen Benutzer während des Betriebs. Insgesamt bietet APPLIED MATERIALS Centris DPS MESA eine effiziente und vielseitige Ätz- und Aschelösung für Halbleiterfabriken. Seine fortschrittlichen Technologien, erstklassige Ausrüstungssicherheit und Automatisierung und hohe Produktivität sind in der Branche beispiellos, so dass es eine ideale Wahl für jede Halbleiteranwendung ist.
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