Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centris SYM3 #293627020 zu verkaufen
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ID: 293627020
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2019
Metal etcher, 12"
(4) Load ports
Chambers:
Chamber A1: CNTSYM3; Chamber chemicals gases used: O2, Cl2, HBr, SiCl5, SF6, BCl3, CH2F2, SO2, NF3, CHF3, CF4, He, Ar, N2
Chamber A2: CNTSYM3; Chamber chemicals gases used: O2, Cl2, HBr, SiCl5, SF6, BCl3, CH2F2, SO2, NF3, CHF3, CF4, He, Ar, N2
Chamber B1: CNTSYM3; Chamber chemicals gases used: O2, Cl2, HBr, SiCl5, SF6, BCl3, CH2F2, SO2, NF3, CHF3, CF4, He, Ar, N2
Chamber B2: CNTSYM3; Chamber chemicals gases used: O2, Cl2, HBr, SiCl5, SF6, BCl3, CH2F2, SO2, NF3, CHF3, CF4, He, Ar, N2
Chamber C1: CNTSYM3; Chamber chemicals gases used: O2, Cl2, HBr, SiCl5, SF6, BCl3, CH2F2, SO2, NF3, CHF3, CF4, He, Ar, N2
Chamber C2: CNTSYM3; Chamber chemicals gases used: O2, Cl2, HBr, SiCl5, SF6, BCl3, CH2F2, SO2, NF3, CHF3, CF4, He, Ar, N2
Gas lines:
Line1, 2, 4, 12, 13: MFC
Line3: Cl2, 400 SCCM
Line4: MFC
Line5: HBr, 400 SCCM
Line6: SiCl4, 120 SCCM
Line7: SF6, 100 SCCM
Line8: O2, 60 SCCM
Line9: BCl3, 300 SCCM
Line10: CH2F2, 40 SCCM
Line11: SO2, 200 SCCM
Line14: NF3, 500 SCCM
Line15: CHF3, 300 SCCM
Line16: CF4, 300 SCCM
Line17: He, 500 SCCM
Line18: O2, 700 SCCM
Line19: Ar, 1000 SCCM
Line20: N2, 50 SCCM
Does not include:
Chiller
Dry pump
Power supply: 208 V AC, 3 Phase
2019 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centris SYM3 ist eine fortschrittliche Ätz-/Ascheausrüstung, die entwickelt wurde, um überlegene Strukturen und Muster auf verschiedenen Substraten zu erzeugen, die auf Trägern registriert sind. Das System basiert auf einer fortschrittlichen, hochqualitativen Architektur, die die Flexibilität der wirtschaftlichen Betätigung und die Geschwindigkeit elektromechanischer Systeme nutzt. Diese Einheit kann Substratgrößen von bis zu 8 "Durchmesser handhaben und verfügt über Gassteuerungsfunktionen für über 10 Gase, so dass eine Reihe von Prozessen wie Tiefenätzen von Silizium, hochdichtes Plasmaätzen, Resistentfernung und differentielles Strippen möglich sind. Die Maschine ist auch sehr modular, so dass Benutzer das Werkzeug konfigurieren, um komplexe benutzerdefinierte Strukturen und Muster zu produzieren. AMAT Centris SYM3 verfügt über einen hochauflösenden Bildübertragungsmechanismus gepaart mit einem hochfähigen Autofokus-Asset, der eine überlegene Prozesswiederholbarkeit und -rendite ermöglicht. Das Modell bietet darüber hinaus eine Vielzahl modernster Sicherheitsprotokolle, um das Risiko eines Ausfalls von Geräten aufgrund von Kontaminationen oder anderen betrieblichen Problemen zu minimieren. ANGEWANDTE MATERIALIEN Centris SYM3 ist mit einem geschlossenen Prozessleitsystem ausgestattet, das Durchflussraten und Druck ausgleicht, um die Prozessleistung zu maximieren. Dieses Gerät verwendet ein proprietäres Softwarepaket, um die Kontrolle und Überwachung von Rezepten zu automatisieren und eine grafische Darstellung von Ätzprozessen bereitzustellen, um den Operatoren zu helfen, den Prozess zu verstehen und zu optimieren. Die Technologie ermöglicht mehrere Ätz-/Ascheprozessrezepte on-the-fly, ohne den aktuellen Prozess zu stoppen und nachzuladen, den Durchsatz und die Wiederholbarkeit zu erhöhen. Centris SYM3 ist eine leistungsstarke Ätzmaschine, ideal für eine Vielzahl von Anwendungen. Die offenen Spezifikationen des Tools bieten ein hohes Maß an Flexibilität und ermöglichen die Konfiguration des Geräts für eine optimale Betriebsumgebung. Sein hochwertiges Abbildungs- und geschlossenes Prozesssteuerungsmodell trägt zur Verbesserung von Ertrag und Wiederholbarkeit bei und ermöglicht es Benutzern, mit weniger Zeit und Aufwand bessere Ergebnisse zu erzielen.
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