Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centris #9394694 zu verkaufen

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ID: 9394694
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2018
SYM3 Etcher, 12" Controller (2) External racks For main AC, system control, power supplies Front loader non-functional (6) Chambers: Chamber A1 Chamber A2 Chamber B1 Chamber B2 Chamber C1 Chamber C2 Power supply 2018 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT Centris ist ein Ätzer und Ascher zur hochpräzisen Waferbearbeitung. Der Ätzer ist in der Lage, die Verarbeitung verschiedener Materialien mit geringen Betriebskosten zu reinigen und zu wiederholen. AKT Centris Etcher nutzt eine Reihe ausgeklügelter Prozesskontrolltechnologien und materialspezifische Ätzprofile, um jedes Mal genau zu ätzen. Das Gerät verfügt über einen kleinen Formfaktor, der die Auslastung auf begrenztem Raum maximiert und mehrere Wafer unterschiedlicher Größe handhaben kann. AMAT Centris verfügt über ein einziges integriertes Steuerungssystem, das einfach zu bedienen und zu überwachen ist. Der Controller kombiniert manuelle und automatische Präzisionskammerpositionierung, integrierte Isolationsverriegelungen, visuelle Umgebungsüberwachung, integrierte Temperatur- und Druckkontrolle und Echtzeit-Prozessüberwachung mit Grafiken zur Einheitenstatus-Überwachung. Dies ermöglicht eine präzise Prozess- und Maschinensteuerung sowie segmentierte Prozesskammern und zwei thermische Zonenkammern, die die Verarbeitungsleistung optimieren. Das Tool ist auch mit Advanced Plasma Tracking (APT) ausgestattet, das die genaue Position des Ätz- und Ascheprozesses mit einem einzigartigen Drei-Achsen-Koordinaten-Asset überwacht. Dadurch kann das Ätzelement genau auf das Substrat ausgerichtet werden und das Zielkantenprofil beim Ätzen entfällt. Das Modell verfügt auch über Exactradd, eine PC-gesteuerte Source-Etch-Matching-Ausrüstung, die Resist-Layer-Profildaten optimiert und gezielt Substrat-Ätzschichten entspricht. Darüber hinaus hat APPLIED MATERIALS Centris etcher die Optimierung des Zielprofils verbessert, um Prozessmuster präzise durchführen zu können. Seine vollständig umschlossene Vollmetallkonstruktion macht es sehr zuverlässig und wartungsarm. Doppelgehäuse mit Kaskadenfiltration ermöglichen verschmutzungsfreie, qualitativ hochwertige Prozessergebnisse, auch für die Chargenverarbeitung mit langen Auflagen. Insgesamt bietet das System hochpräzises Ätzen und Aschen mit Qualitätswiederholbarkeit und stabiler Verarbeitung für die Halbleiterwaferbearbeitung.
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