Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura ACP DPN Gate stack #9289806 zu verkaufen

Es sieht so aus, als ob dieser Artikel bereits verkauft wurde. Überprüfen Sie ähnliche Produkte unten oder kontaktieren Sie uns und unser erfahrenes Team wird es für Sie finden.

ID: 9289806
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2010
Decoupled Plasma Nitride, 12" (2) Load ports Chambers A/B: DPN+ Chambers C/D: RTP Radiance Power supply: 110 AC, 3 Phase 2010 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura ACP DPN Gate Stack ist ein Ätzer/Ascher zur Verarbeitung einer Vielzahl von Substraten, die bei der Herstellung von Halbleiterbauelementen verwendet werden. Der Ätzer ist so konzipiert, dass er hochgleichmäßige Ätztiefen und Prozesse mittels dotierstoffselektiver Plasmaätzung mittels fluor- und chlorbasierter Chemie liefert. Es ist in der Lage, eine überlegene Kontrolle über den Ätzprozess sowie hohe Materialabtragsraten zu bieten. Dieser Ätzer verfügt über ein Niederdruck-kapazitiv gekoppeltes Plasma (CCP) -Ätzsystem mit präziser Reaktantensteuerung, um eine ausgezeichnete Ätzgleichmäßigkeit und Selektivität über verschiedene Materialtypen zu gewährleisten. Dieser Ätzer ermöglicht auch eine hervorragende Steuerung von Ätzkammerbedingungen wie Druck, Gasverteilung und Plasmaleistung. Mit seinen fortschrittlichen Steuerparametern bietet das System eine konsistente Ätzleistung mit sauberen geätzten Oberflächen gleichmäßiger Tiefe und Seitenwandglätte. AMAT Centura ACP DPN Gate Stack verwendet eine patentierte Dual Particle Neutralizer (DPN) Technologie, um hohe Vorspannungen bei sehr hohen Frequenzen zu liefern, ohne Substratmaterialien zu beschädigen. Die DPN-Technologie minimiert zudem die Arsenbelastung, indem traditionelle Ascheprozesse entfallen. Das DPN-Verfahren eignet sich auch für eine Reihe von Substraten, wie Polysilizium, Aluminium, Siliziumdioxid und Galliumarsenid. Darüber hinaus ist der Ätzer mit verbesserten Vakuumtechnologien ausgestattet, die eine saubere Ätzumgebung bieten, die die Reinigungszeiten nach dem Ätzen bei gleichzeitiger Beibehaltung der Ätzqualität reduziert. Der Ätzer ermöglicht auch die präzise Steuerung des Druckprofils, wodurch Beschädigungen der Torstapel vermieden werden. Der Ätzer bietet zudem eine dynamische Gassteuerung und ultraschnelle Schaltzeiten, die ein breites Prozessfenster ermöglichen. Darüber hinaus bieten spezialisierte Fernbrenner eine präzise Gleichmäßigkeitskontrolle auch in schwer ätzbaren Bereichen. Schließlich bietet APPLIED MATERIALS Centura ACP DPN Gate Stack auch Sicherheitsmerkmale wie antireflektierende und lichtstreuende Schutzschilde für die Ätzkammer. Dank seiner präzisen Steuerparameter und fortschrittlichen Sicherheitsfunktionen kann dieser Ätzer hochpräzise Ätzungen liefern und gleichzeitig die Möglichkeit von Substratschäden minimieren.
Es liegen noch keine Bewertungen vor