Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura ACP DPN Plus Gate Stack #9383657 zu verkaufen

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ID: 9383657
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2010
Decoupled plasma nitride deposition system, 12" DRAM Gate nitridation system (4) Facet mainframes (2) D746 DPN Plus R741 RTP Radiance RP chamber DPN Plus chamber options: Generator Enhanced pulsed RF RTP radiance chamber Technology option Open loop tuner Process application PNA DPN Plus gas delivery options: He 500 SCCM N2 500 SCCM RTP Gas panel options: (10) Regulators and display Factory interface options Configurable colored light Operator access switch TIRIS With RF E99 Carrier ID Light curtain Docking flange shield Single axis aligner Remote Options: Flat panel monitor, 17" Non standard request O-Ring type CHEMRAZ chamber C & D RTP ACP Block II gas panel NSR Celerity 2010 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura ACP DPN Plus Gate Stack ist ein leistungsstarker, hochpräziser Etcher/Asher für die Sub-Micron-Verarbeitung. Es ist mit Direct Plasma Naming (DPN) -Technologie ausgestattet, die eine präzise selektive Ätzung und Veraschung von Merkmalen von 0,3 µm 2/3 Steigung bis zu 0,12 µm 1/2 Steigung und doppelte Strukturierung bei 0,09 µm 1/4 Steigung für die Entwicklung ermöglicht. Der Etcher/Asher ist auch mit einer Vielzahl von Substraten, wie Silizium, Halbleitern und Metalloxiden kompatibel. AMAT Centura ACP DPN Plus Gate Stack bietet eine Reihe von Optionen zur Steuerung des Ätz-/Ascheprozesses. Dazu gehört die Selektivität und Resist-Präsenz auf dem Wafer, die Einstellung der richtigen Ätzbedingungen, die Steuerung des Ätzdrucks, die Ätzdauer, die Ätzrate und der Endpunkt schnell und genau. Es ermöglicht dem Benutzer auch, die Prozesseffizienz anzupassen, den Durchsatz zu optimieren und Edge-Effekte zu minimieren. Darüber hinaus kann mit dem System mehrere nicht selektive Materialien wie Siliziumoxid, Siliziumoxidnitrid und Aluminiumoxid geätzt werden. Das System bietet auch eine benutzerfreundliche, intuitive grafische Benutzeroberfläche, die es den Bedienern erleichtert, den Prozess einzurichten und zu überwachen. Der Etcher/Asher kann mit einer Vielzahl zusätzlicher Hardware- und Softwaremöglichkeiten wie einem Polierkopf und einem Plasma Viewer konfiguriert werden. Die integrierte Echtzeit-Suite bietet auch einen Satz von Daten, wie Messtechnik-Daten, sowie Prozesssteuerungsinformationen, um den Prozess auf Wafer-für-Wafer-Basis zu überwachen. Abschließend ist APPLIED MATERIALS Centura ACP DPN Plus Gate Stack ein fortschrittlicher Ätzer/Ascher, der Präzisionsstufen für selbst die fortschrittlichsten Prozessanforderungen bietet. Die optimale Kombination von Steuerungs- und Prozessparametern, die große Vielfalt an kompatiblen Materialien, die intuitive grafische Benutzeroberfläche und die leistungsstarken Datenanalysetools machen Centura ACP DPN Plus Gate Stack zu einer perfekten Lösung für Branchen, die Präzision von Submikron benötigen.
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