Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura AP AdvantEdge G5 Mesa Poly #9353988 zu verkaufen

ID: 9353988
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2014
Polysilicon etcher, 12" Silicon Axiom HT chamber: CCM Cover Chamber AC Cover (3) Silicon AdvantEdge G5 Mino chambers (3) Mesa sources AdvantEdge G5 Minos swap kit Gas panel: CL2 Purifier Factory interface: Right side storage pod Left side storage pod (3) Load ports Interface A (3) Info pads A or B (3) Operator access switches Front facing intake plenum Remote option: Voltage sag monitor Mainframe lifting sling: FIF kit 2014 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura AP AdvantEdge G5 Mesa Poly ist eine fortschrittliche Ätz- und Ascheausrüstung für High-End-integrierte Schaltungen (ICs). Es ist ein voll ausgestattetes System, das direkten Waferanschluss an den Reaktor und vollen Waferzugriff während des Ätzens bietet, was eine größere Prozessflexibilität und erweiterte Prozesskontrolle ermöglicht. Das Gerät verfügt über eine integrierte optische Betrachtungsmaschine mit mehreren Wellenlängen und eine ausgeklügelte hochpräzise Bewegungssteuerung, die es ideal für die Lithographie von tiefen Submikrongeräten macht. Darüber hinaus verfügt der AMAT Centura AP AdvantEdge G5 Mesa Poly über eine schnell wirkende, mehrzonige beheizte Platte zur präzisen Temperaturregelung sowie eine Reihe von Strahllenkungstechnologien zur hochpräzisen Strukturierung. ANGEWANDTE MATERIALIEN Centura AP AdvantEdge G5 Mesa Poly ist mit einer fortschrittlichen Software-Schnittstelle ausgestattet, die es Benutzern ermöglicht, Rezepte und andere kritische Parameter für jede Ätz- oder Ashing-Anwendung zu programmieren und zu speichern. Diese Schnittstelle verfolgt auch die Werkzeugleistung mit Echtzeitdiagrammen, damit Benutzer Parameter anpassen können, um eine enge Kontrolle über Ätz- und Ascheprozesse zu behalten. Darüber hinaus kann ein breites Spektrum an In-situ-Messungen durchgeführt werden, um einen tiefen Einblick in die Ätz- oder Ascheprozesse zu ermöglichen und den Anwendern eine entsprechende Optimierung ihrer Rezepturen zu ermöglichen. Centura AP AdvantEdge G5 Mesa Poly verwendet einen präzisionsgesteuerten Ätzprozess, um einheitliche anfängliche Waferprofile und beste Kantenqualität zu garantieren. Dieses Asset erleichtert die präzise Positionierung von über Löcher und andere feine Funktionen, auch in den fortschrittlichsten Prozessen. Darüber hinaus unterstützt das Modell Waferdurchmesser von 200mm bis 315mm und ist voll kompatibel mit einer Reihe von Ätzgasen und bietet höchste Flexibilität je nach Anwendungsanforderungen. AMAT/APPLIED MATERIALS Centura AP AdvantEdge G5 Mesa Poly erreicht dank enger Prozesskontrolle und sauberem Kammerdesign auch eine erstklassige Partikelkontrolle. Diese Ausrüstung ist mit einem umfassenden Vakuumsystem, einem strengen mechanischen und chemischen Reinigungsprozess und sorgfältig ausgewählten Ätzmaterialien ausgestattet, um das höchste Niveau an partikelfreier Ergänzung zu erreichen, um eine bessere Geräteleistung und Langlebigkeit zu gewährleisten. Zusammenfassend ist AMAT Centura AP AdvantEdge G5 Mesa Poly eine Top-of-the-Line-Ätz- und Ascheeinheit für integrierte High-End-Schaltungen. Diese Maschine verfügt über ein integriertes optisches Betrachtungswerkzeug mit mehreren Wellenlängen, ein präzisionsgesteuertes Ätzen und eine fortschrittliche Softwareschnittstelle für eine umfassende Prozesssteuerung. Darüber hinaus bietet die Anlage eine enge Partikelkontrolle und ist voll kompatibel mit einer Reihe von Ätzgasen, so dass es die perfekte Wahl für die IC-Produktion.
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