Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura AP AdvantEdge G5 Mesa T2 Poly #293802312 zu verkaufen

AMAT/AMAT/APPLIED MATERIALS Centura AP AdvantEdge G5 Mesa T2 Poly ist ein Ätzer und Ascher, der sowohl trockene Ätz- als auch Nassätzprozesse durchführen kann. Dieser Ätzer ist mit einer pneumatischen Kassettenliefereinrichtung ausgestattet, die Verbrauchsmaterialien wie Ätzgase, Plasma, Materialien und Gülle ohne manuelle Eingriffe liefern kann. Die Prozesskammer ist hermetisch abgedichtet, wodurch hohe Konzentrationen an reaktiven Gasen unter Minimierung von Verunreinigungen verwendet werden können. Das System verfügt über eine 300 mm Duschkopfelektrode, um einheitliche Plasmadichten und eine hohe Flexibilität zu gewährleisten, um eine optimale Ätzprozessgleichförmigkeit zu erreichen. Der Ätzer soll eine sauberere Substratoberfläche zur Weiterverarbeitung liefern. Das Gerät bietet hervorragende Prozessfähigkeiten für gehärtete Stähle und fortschrittliche Materialien wie keramische Materialien, Wolfram, Metalle und Polymere. Die fortschrittliche Prozesssteuerungsmaschine ermöglicht eine präzise Steuerung von Ätzparametern wie Prozesszeit und Druck sowie der mit der Plasmachemie verbundenen Parameter. Dieser erweiterte Ätzer verfügt auch über ein Hochtemperatur-Kalibrierwerkzeug, das es ermöglicht, Änderungen der Materialeigenschaften im Laufe der Zeit automatisch auszugleichen. Dies führt zu einem wiederholbaren und zuverlässigen Prozess. Darüber hinaus bietet APPLIED MATERIALS/AMAT Centura AP AdvantEdge G5 Mesa T2 Poly IC-Chip-Designern Zugang zur Nachätzverarbeitung. Es ist mit einer automatisierten Kegelkanten-Passivierung ausgestattet, die entwickelt wurde, um eine gut definierte Kantenwulst zu produzieren, ohne Oberflächenrauhigkeit zu erzeugen. Das Modell ist auch mit einer Reihe von Nachätzglühverfahren kompatibel, einschließlich Tieftemperaturglühen und Schnellglühen. AMAT/APPLIED MATERIALS/APPLIED MATERIALS Centura AP AdvantEdge G5 Mesa T2 Poly wurde entwickelt, um die hohen Qualitätsanforderungen der heutigen anspruchsvollen Halbleiterherstellungsprozesse zu erfüllen. Dieser wirtschaftliche Ätzer erfüllt oder übertrifft die Anforderungen der meisten führenden IC-Chipdesigner und IC-Fertigungsanlagen von heute und ermöglicht eine wiederholbare und zuverlässige Ätz- und Passivierungsverarbeitung. Die Ausrüstung ist kostengünstig und ermöglicht es IC-Chip-Designern, das gleiche hochwertige Ätzverfahren für eine breite Palette fortschrittlicher Materialien und anspruchsvolle IC-Chip-Designs zu verwenden.