Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura AP DPS MINOS #293625373 zu verkaufen

ID: 293625373
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2011
System, 12" 2011 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura AP DPS MINOS Dry Strip Asher ist eine Ausrüstung zum Trockenätzen von Substraten und dünnen Filmen. Dieses fortschrittliche Ätzsystem bietet die höchste Gleichmäßigkeit jeder Trockenätzeinheit, die heute auf dem Markt erhältlich ist. Sein einzigartiges Design ermöglicht das schnelle und effiziente Ätzen großer Oberflächen mit ausgezeichneter Gleichmäßigkeit und Wiederholbarkeit und bietet eine kostengünstige Lösung für zahlreiche Dünnschichtabscheidungen, Ätz- und Passivierungsanwendungen. AMAT Centura AP DPS MINOS nutzt eine industrielle Plasmaquelle und fortschrittliche Prozesskontrolltechnologien, um einen sehr einheitlichen und wiederholbaren Prozess zu erreichen. Der Ätzvorgang wird durch eine programmierbare Steuerung gesteuert, die mit einer SPS verbunden ist. Dadurch wird sichergestellt, dass Prozessparameter und Timing stets konsistent sind, was zu gleichmäßiger Dickenätzung und minimalem Überätzen oder unter Ätzen von Gegenständen führt. Die hohe Ätzgleichmäßigkeit wird durch einen fortgeschrittenen Wafer-Musteralgorithmus, der in die Maschine integriert ist, weiter erhöht, um sicherzustellen, dass der Ätzprozess perfekt für den Typ des zu ätzenden Substrats optimiert ist. Das Werkzeug verfügt auch über eine ganze Reihe von Sicherheitsmerkmalen. Dazu gehören geschützte Stromquellen, magnetisch abgeschirmte Prozesskammern sowie eine Reihe von Alarmen und Monitoren, um sicherzustellen, dass der Prozess sicher und nach den Richtlinien des Herstellers läuft. ANGEWANDTE MATERIALIEN Centura AP DPS MINOS bietet die höchste Ätzgleichmäßigkeit aller derzeit verfügbaren Trockenätzmittel. Seine fortschrittlichen Prozesskontrolltechnologien, einschließlich Inline-Prozessüberwachung, gewährleisten Wiederholbarkeit, Zuverlässigkeit und Qualität. Sein ausgeklügelter Wafer-Strukturierungsalgorithmus sorgt dafür, dass der Prozess für das spezifische zu ätzende Substrat optimiert wird. Darüber hinaus stellen die Sicherheitsmerkmale des Modells sicher, dass der Prozess sicher läuft. Diese fortschrittliche Ätzausrüstung ist in der Lage, kostengünstige Lösungen für zahlreiche Dünnschichtabscheide-, Ätz- und Passivierungsanwendungen bereitzustellen.
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