Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPS #293820215 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS DPS (Dry Plasma Equipment) ist ein Hochleistungs-Etch/Asher-System, das für den Einsatz in Halbleiterherstellungsanwendungen entwickelt wurde. Es wird hauptsächlich für dielektrische und Polysiliziumätzung sowie Strukturierung, Dotierstoffabscheidung und Sauerstoffasche verwendet. Die AMAT DPS-Einheit besteht aus einer hocheffizienten Plasmakammer, einer Dreizonentemperatureinstellmaschine und einem konformen Gasströmungskanalwerkzeug. Die Ätz-/Ascherkammer ist mit einer Plasmaquelle und Ionenquelle ausgestattet, die zur Erzeugung des Plasmas verwendet werden. Zur Einleitung der Ätz-/Aschegase in die Plasmareaktionszone werden zwei Gaseinlässe an den Kammerwänden verwendet. Es verfügt auch über eine integrierte Abgasanlage und Hochleistungskomponenten zur Optimierung der Plasmaleistung. Das präzise Drei-Zonen-Temperatureinstellmodell in der Kammer gewährleistet eine gleichmäßige Wärmeverteilung bei minimaler Temperaturschwankung. Die Temperatur reicht von -100 ° C bis + 200 ° C und kann je nach Anwendung variiert werden. Die konforme Gasströmungskanalausrüstung sorgt für eine gleichmäßige Gasverteilung. Das Gas wird an mehreren Stellen entlang der Kammerwände eingeleitet, wodurch optimierte Ätz-/Ascherergebnisse erzielt werden. ANGEWANDTES MATERIAL DPS-System verfügt über eine breite Palette von Steuerungsmöglichkeiten. Es verfügt über eine benutzerfreundliche grafische Benutzeroberfläche, die die volle Kontrolle über alle Parameter wie Plasmadruck, Gasfluss, Temperatur und Substratvorspannung bietet. DPS-Einheit verfügt über eine fortschrittliche Überwachungsmaschine, mit der Benutzer kritische Prozessparameter in Echtzeit analysieren können. Dies gewährleistet eine präzise Steuerung von Ätz-/Ascherprozessen. Das Werkzeug ist in der Lage, eine Vielzahl von Substratmaterialien wie Silizium, Aluminium, Titan, Kupfer, Eisen und abgeschiedenen Folien wie Kupfer und Aluminium zu handhaben. Es kann in einer Vielzahl von Halbleiterherstellungsverfahren verwendet werden, einschließlich Metalloxid-Halbleiterbauelemente (MOS), Silizium-auf-Isolator (SOI) -Bauelemente und mehrstufige Leiterbahnen. AMAT/APPLIED MATERIALS DPS etch/asher asset ist ein fortschrittliches Modell für Ätz- und Ascheprozesse, die qualitativ hochwertige Ergebnisse gewährleisten. Mit seiner präzisen Steuerung der Ätzrate und der konformen Gasströmungskanalisierung bietet AMAT DPS-Geräte eine beispiellose Prozesskontrolle über effiziente Ätz- und Ascheprozesse. Es ist ein ideales System für eine Vielzahl von Halbleiterherstellungsprozessen.