Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPS2 G5 #9286831 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DPS2 G5 ist eine fortschrittliche Ätz-/Ascheausrüstung, die in der fortschrittlichen Halbleiterherstellung verwendet wird. Es wurde entwickelt, um dielektrische und leitfähige Strukturen in Siliziumscheiben von bis zu 300 mm Größe zu ätzen oder zu aschen. Das System verfügt über eine leistungsfähige Wafer-Stützeinheit, die einen elektrostatischen Klemmmmechanismus verwendet, um sicherzustellen, dass Wafer während des gesamten Prozesses sicher und präzise positioniert bleiben. Dadurch wird verhindert, dass Partikel oder Verunreinigungen in die geätzten oder aschierten Oberflächen eingebracht werden. AMAT Centura DPS2 G5 verfügt auch über eine leistungsstarke Reihe von Prozesskammern, einschließlich der Hauptkammer, Isolationskammer, Bühnenkanäle und Antriebskammer. Die Hauptkammer ist, wo Ätzen oder Asche stattfinden und verfügt über eine leistungsstarke Elektronen-Zyklotron-Resonanz (ECR) Plasmaquelle, die effizient, zuverlässig und hat eine lange Lebensdauer. Die Isolationskammer ermöglicht selektive Prozesse und ist mit einer Gasinjektionsmaschine ausgestattet, die eine gleichmäßige Materialabscheidung über die dielektrischen Schichten gewährleistet. Die Bühnenkanäle bieten eine sichere und direkte Verbindung von der Ladekapazitätsstation zur Haupt- und Isolationskammer. Das Tool verfügt auch über eine Reihe von erweiterten Prozesssteuerungsfunktionen, einschließlich Prozesszeitüberwachung, Temperaturregelung von bis zu 1000 ° C, Mehrfachrezept-Fähigkeit und Plasmasteuerung einschließlich Strom- und Gasfluss. Darüber hinaus ist APPLIED MATERIALS Centura DPS2 G5 in der Lage, mit einer Vielzahl von Prozesschemien zu ätzen oder zu aschen, einschließlich Fluorchemie und Metallchemie, was eine erhöhte Prozessflexibilität ermöglicht. Centura DPS2 G5 ist ein leistungsfähiges und präzises Etch/Asche-Asset, ideal für jede fortschrittliche Halbleiterherstellungsanlage. Die erweiterten Prozesssteuerungsfunktionen, das leistungsstarke Wafer-Unterstützungsmodell und die überlegene Ätz-/Aschefähigkeit bieten ein zuverlässiges und effektives Werkzeug für die Geräteherstellung.