Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Chamber for Centris SYM3 Poly #293659650 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS Chamber for Centris SYM3 Poly ist ein Ätzer/Ascher, der speziell entwickelt wurde, um Ätzrücken/Streifen, Lückenfüllung und Planarisierung von Vias und Kontakten mit hohem Seitenverhältnis in einer Vielzahl von Substraten wie Si, SiGe, SiC und GaAs zu verarbeiten. Es ist mit zwei unabhängigen Kammern für die komplette Prozesssteuerung ausgestattet, so dass sowohl Ätzrücken als auch Streifen auf dem gleichen Wafer. Die Kammer kann 10-Zoll oder 12-Zoll-Wafer unterstützen, wodurch sie mit den gängigsten Wafergrößen kompatibel ist, die im Herstellungsprozess der integrierten Schaltung (IC) verwendet werden. AMAT Chamber für Centris SYM3 Poly ist mit einem automatisierten Prozessleitsystem ausgestattet, das auf die Optimierung von Prozesserträgen und Zykluszeiten ausgelegt ist. Es bietet hohe Prozessgleichförmigkeit und Reproduzierbarkeit, ermöglicht aber auch Echtzeit-Qualitätskontrolle und Feedback. Die Benutzeroberfläche der Kammer ist auf Benutzerfreundlichkeit und Prozessoptimierung ausgelegt. Es bietet schnelle Rezepteinrichtung, Echtzeit-Rezeptanpassung und Rezeptüberwachungsfähigkeit. Zusätzlich ist die Kammer in der Lage, Gleichmäßigkeitsprüfungen vor und während des Prozesses durchzuführen, um hohe Ausbeuten und Durchsatz zu gewährleisten. ANWENDUNGSMATERIALKAMMER für Centris SYM3 Poly ist mit mehreren Funktionen zur Verbesserung der Prozessqualität ausgestattet, darunter ein Heißgasheizungsdesign für verbesserte Kontakte und Spaltfüllungen sowie ein Laser-Interferometriesystem für Höhenmessungen. Die Kammer bietet außerdem mehrere Optionen zur Steuerung des Gasflusses und zur Druckregelung, um fortschrittliche Ätz- und Lückenfüllrezepte zu ermöglichen. Chamber for Centris SYM3 Poly wurde entwickelt, um hochpräzise Prozesse für die Entwicklung von ICs der nächsten Generation bereitzustellen. Diese hochmoderne Kammer bietet optimale Prozessleistung, Anwenderflexibilität und verbesserte Ausbeuten. Kombiniert mit präzisen Verarbeitungsparametern und sauberer Verarbeitungsumgebung ist dieser Ätzer/Ascher in der Lage, erstklassige Ergebnisse für die meisten IC-Herstellungsanforderungen zu erzielen.