Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS DPS G5 MESA T2 #9395535 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS DPS G5 MESA T2 ist ein Ätzer/Ascher, der zur Durchführung einer Vielzahl von Prozessen wie Ätzen, Aschen, Aschen, selektives und gleichzeitiges Ätzen von Medien verwendet wird. Dieses Gerät ist speziell für die Herstellung von Halbleitern und Mikroelektronik geeignet. Es verfügt über einen Zwei-Modul-Betrieb, der eine integrierte Bearbeitungskammer verwendet, um eine schnelle und effiziente Übertragung des Substrats zwischen Plasmaätz- und Aschekammer zu ermöglichen. Der AMAT DPS G5 MESA T2 Aschenätzer verfügt zudem über ein integriertes Robotertransfersystem, mit dem Anlagenbediener Substrate schnell von einer Kammer zur anderen bewegen können. Dieses Gerät enthält auch einen Temperaturregler, der so programmiert werden kann, dass genaue Temperaturen für mehrere Substrate gleichzeitig aufrechterhalten werden. Zusätzlich bietet der Regler optimierte Druck- und Temperatureinstellungen für optimale Prozesssteuerung und Gleichmäßigkeit. In der Ätzkammer von APPLIED MATERIALS DPS G5 MESA T2 verwendet die Maschine fortschrittliche, fortschrittliche Etch-Reaktortechnologien, um ein präzises Ätzen von Medien zu ermöglichen. Diese Reaktortechnologien umfassen Gleichstromtechnologie, gepulste Netztechnologie, Ionenzyklotronresonanztechnologie und Elektronenzyklotronresonanztechnologie. Diese Technologien beinhalten die Verwendung von Hochleistungs-HF-Wellenformen und -Frequenzen, um sicherzustellen, dass Substrate mit höchster Präzision und Geschwindigkeit geätzt werden können. DPS G5 MESA T2 Ascher-Ätzer verfügt auch über eine fortschrittliche Asher-Reaktor-Technologie. Diese Asher-Reaktortechnologie nutzt eine Kombination aus Temperatur und Druck, um eine einheitliche und konsistente Umgebung für ein effizientes Aschen von Substraten zu schaffen. Der Asher-Reaktor verwendet auch Schlitzdüsen zur präzisen Abgabe von inerten und reaktiven Gasen, die dabei eingesetzt werden. Diese Technologie stellt auch sicher, dass keine Totzonen durch Gasströmung auftreten, wodurch ein gleichmäßiges Aschen des Substrats erreicht wird. Insgesamt bietet das AMAT/APPLIED MATERIALS DPS G5 MESA T2 Tool eine umfassende Lösung für Ätz- und Aschetechnik. Es verwendet eine Kombination aus fortschrittlichen Plasmaätzer- und Ascherreaktortechnologien, um höchste Präzision und Geschwindigkeit für Ätz- und Ascheprozesse zu gewährleisten. Seine fortschrittliche Steuerung ermöglicht es auch, exakte Temperaturen und Drücke zu programmieren und aufrechtzuerhalten, um einheitliche und konsistente Ergebnisse über eine breite Palette von Substraten zu gewährleisten. Darüber hinaus sorgt die automatisierte Robotertransferanlage für einen effizienten Transport von Substraten zwischen Ätz- und Aschekammer. Dieses Modell ist eine ideale Wahl für Halbleiter- und Mikroelektronik-Fertigungsprozesse.