Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS DPS G5 #9375195 zu verkaufen
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ID: 9375195
Poly etcher, 12"
AC Remote power rack
CHX Chiller
EDWARDS IXM 1800 Dry pump
Chambers:
(3) DPS (A, B, C)
AXION (D)
FI (EFEM):
UPS
MKS Macronode
Keyboard Video Mouse (KVM)
Ethernet switch hub
Fast Data Gateway (FDG)
Short flex controller assy
Light curtain
Load port
RFID
Aligner
Robot controller
Ionizer controller
Light tower
Intake plenum enclosure
MF:
Type: AP
TM Robot
TM Robot controller
TM Robot blade
Integrated point of use pump (I-PUP)
TM Baratron gauge
TM Vacuum gauge
Load lock vacuum gauge
Load lock indexer controller
TM Diffuser
Load lock vent valve
Load lock heater controller
Load lock door
Auto Pressure Controller (APC)
Slit valve
GME Chamber port Assy
Lid
Bulk gas delivery
Modular DNET IO Controllers (MDI)
Process chamber:
Chamber Control Module (CCM)
Source coil
Source ceramic lid
Source lid heater
Upper liner
Lower liner
Cathode liner
Flow equalizer
Slit liner door
Cathode assy
ESC RF Filter box
AC Distribution box
Temperature controller
Throttling gate valve
Eyed OES Spectrograph
Electrostatic Chuck (ESC)
HE Controller
Ion gauge
Pumpstack
Chamber lift assy
TGN Gas delivery
Vacuum gauge
Vacuum switch
Pump
Foreline ISO Valve
RF Match box and generator
Strip chamber:
Chamber Control Module (CCM)
Pedestal assy
Throttling gate valve
Foreline ISO Valve
AC Distribution box
Temperature controller
Vacuum gauge
Vacuum switch
Remote plasma source
Gas panel:
Type: NEXTGEN (16) Sticks
Gas weldment type: Single line drop
Mass Flow Controller (MFC)
Flow Ratio Controller (FRC).
AMAT/APPLIED MATERIALS DPS G5 ist ein Deep Reactive Ion Etch (DRIE) und Asher Gerät mit einer umfangreichen Liste von Funktionen und Funktionen. Es funktioniert, indem es Ionen verwendet, um ein Material, in der Regel einen Halbleiter, zu ätzen oder zu aschen, um gewünschte Muster zu erstellen. Es besteht aus mehreren Komponenten, wie einer Quellkammer und einer Druckkammer, um seine Spezialfunktionen zu unterstützen. Die Quellkammer umfasst ein Dampfeinspritzsystem sowie eine modulare, abnehmbare Verteilerausführung. Diese Kammer wird zur zuverlässigen Materialätzung unter Vakuumbedingungen gehalten. Tests haben ihre Zuverlässigkeit und Wiederholbarkeit bewiesen. Die Druckkammer beherbergt die Prozessgase. Hier erfolgt der Großteil der Ätzung und wird exakt auf einem geforderten Druck gehalten. Die Kammer ist auch mit einer Sicherheitsdruckverriegelungseinheit, einer Ferndrucküberwachung und einer Druckregelung ausgestattet. AMAT DPS G5 ist benutzerfreundlich und wurde für die Wiederholbarkeit der Ergebnisse entwickelt. Es ist mit zwei 50 MHz HF-Generatoren ausgestattet, um das Prozessgas zu ionisieren, um das Material zu ätzen. Darüber hinaus verfügt die Maschine über ein Hochspannungs-DC-Bias-Technol- ogy sowie ein Plasmaoxidationswerkzeug, um sicherzustellen, dass die Ätzraten konsistent sind. Die Bandbreite der Materialien, die das Asset ätzen kann, ist ziemlich umfangreich, darunter Silizium, Siliziumnitrid und andere Halbleiter. Das Modell ist in der Lage, ein kontrolliertes Ätzprofil zu produzieren, auch auf weicheren Materialien wie Gold. Die Plasmaätz- und Aschevorgänge verlaufen sowohl recht schnell als auch in relativ kurzer Zeit. Die eingebaute Temperaturregelung und Sicherheitsfunktion sowie die einstellbaren Parameter und die Prozesszeit machen die Ausrüstung leicht an eine Vielzahl von Projekten und Anwendungen anpassbar. Insgesamt ist APPLIED MATERIALS DPS G5 ein ausgezeichneter Ätzer und Ascher, um viele verschiedene Projekte anzugehen. Mit seinen zuverlässigen Komponenten, der einfachen Benutzeroberfläche und den einstellbaren Funktionen sorgt es dafür, dass Projekte mit Genauigkeit und Präzision durchgeführt werden. Das System hat sich in vielen Branchen bewährt, und seine breite Palette an Materialien und Fähigkeiten machen es zu einer unschlagbaren Option.
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