Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS DPS II AE G3 #9206067 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS DPS II AE G3 ist eine hocheffiziente Ätz- und Aschermaschine, die den Anforderungen aktueller Produktionslinien in der Halbleiterindustrie gerecht wird. Dieses System verwendet fortschrittliche Ätz- und Aschetechniken, um Filme in einer Vielzahl von Materialien schnell und präzise zu ätzen und zu aschen. AMAT DPS II AE G3 Einheit hat eine hohe Wiederholbarkeit des Ätzens und Aschens durch seine erweiterte Ätz- und Ascheprozess. Es verfügt über eine hochgenaue Kontrollmaschine, die die Abscheide- und Ätzzeiten und Parameter für die High-End-Materialbearbeitung genau steuern kann. ANGEWANDTE MATERIALIEN DPS II AE G3 verwendet einen Elektronenstrahl, um dünne Filme vom Substrat abzuscheiden, zu ätzen und zu aschen. Der Elektronenstrahl wird auf die Oberfläche des Substrats gerichtet, um Filme abzuscheiden, zu ätzen und zu aschen. Dies geschieht mit Präzision und Genauigkeit, da das Substrat kontinuierlich in X-, Y- und Z-Richtung abgetastet wird. DPS II AE G3 ist sehr flexibel und anpassbar und bietet eine Vielzahl anderer Ätz- und Aschemethoden. Dieses Tool verfügt außerdem über eine Funktion, die es dem Benutzer ermöglicht, je nach bearbeiteten Materialien optimale Ätz- und Ascheparameter für jede Ebene auszuwählen. Dieses Asset bietet auch die Möglichkeit zum Speichern und Abrufen von Ätz- und Ashing-Parametereinstellungen für reduzierte Wafer-Zykluszeiten. Außerdem, AMAT / APPLIED MATERIALS DPS II AE G3 bietet auch ein Hochleistungsendpunktentdeckungsmodell an, das berücksichtigt, dass das genaue vom ganzen Prozess von Anfang bis Ende kontrolliert. Dieses Gerät überwacht Druck, Temperatur und Zusammensetzung sowie andere Parameter, die den Abscheide- und Ätzprozess beeinflussen können. Sie kann auch eventuell auftretende Fehler erkennen und den Benutzer entsprechend benachrichtigen. AMAT DPS II AE G3 ist ein zuverlässiges und effizientes Ätz- und Aschensystem zur Verarbeitung unterschiedlichster Materialien. Mit seinem fortschrittlichen Ätz- und Ascheprozess bietet dieses Gerät eine hohe Präzision, Genauigkeit, Wiederholbarkeit und eine Vielzahl anderer Verarbeitungsmethoden. Diese Maschine ist eine ideale Lösung für Halbleiter-Produktionslinien, um schnell und präzise Ätz- und Ascher-Filme zu erfüllen spezifische Anforderungen.