Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS DPS II AE G3 #9301026 zu verkaufen
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ID: 9301026
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2006
Etcher, 12"
Process: Poly G3
(3) Chambers
2006 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS DPS II AE G3 Asher und Etcher ist eine fortschrittliche Halbleiterverarbeitungsanlage, die zur Bildung kritischer Komponenten in der Elektronikindustrie verwendet wird. Das Gerät verwendet Plasmaätzen und Aschen, um ultrafeine Muster und Strukturen auf einer Reihe von Substraten zu erstellen, einschließlich Glas, Silikon und Metallen. Das G3-Modell hat eine Prozesskammer von bis zu 600mm und kann bis zu acht Platten aufnehmen. Das System wurde mit einer IT-Plattform (Integrated Tool) entwickelt, die die verschiedenen Komponenten des Geräts zu einem einzigen Gerät kombiniert und es dem Bediener ermöglicht, die gesamte Maschine über eine einzige Schnittstelle zu steuern. AMAT DPS II AE G3 Asher und Etcher verwendet mehrere patentierte Technologien, um eine effektive und einheitliche Plasmabearbeitung zu erreichen. Die Plasma Immersion Ion Technology (PIIT) ermöglicht geringere Kosten und schnellere Ätzraten, während die Internal Source of Self-Organization (ISSO) hilft, größere Sichtfelder und präzise Muster zu erreichen. Das G3-Modell umfasst ein innovatives Stromversorgungsmodul mit einem fortschrittlichen digitalen Steuerungstool, das eine präzise Steuerung des gesamten Prozesses ermöglicht. ANGEWANDTE MATERIALIEN DPS II AE G3 Ascher und Etcher ist ein zuverlässiges und effizientes Gut, entwickelt, um verschiedenen Bedingungen standzuhalten. Der innovative Shutterless Etcher ermöglicht eine schnelle Kühlung von Ätzgasen, die Beseitigung von Zyklusschäden und die Erhöhung der Werkzeugstabilität. Das Modell ist mit einer Online-Energieüberwachungsausrüstung ausgestattet, um den Prozess jederzeit zu verfolgen und zu überwachen. Dieses fortschrittliche System bietet die Flexibilität, eine Vielzahl von feinen Mustern und Strukturen mit einer Reihe von Chemien und Gasen zu erstellen. DPS II AE G3 unterstützt reaktive Gase wie O2, CF4, CHF3 und H2 sowie Ätzgase wie N2, Ar, He und Xe. AMAT/APPLIED MATERIALS DPS II AE G3 verfügt auch über eine breite Palette von Prozessparametern, einschließlich Temperatur, Druck und Spannung, die auf die Bedürfnisse jeder Anwendung zugeschnitten werden können. AMAT DPS II AE G3 Asher und Etcher ist eine leistungsstarke, zuverlässige und vielseitige Einheit, die den Anforderungen der heutigen Elektronikindustrie gerecht wird. Mit seiner fortschrittlichen Steuerungsmaschine ermöglicht das G3-Modell eine präzise Prozesskontrolle und sorgt für konsistente Ergebnisse auf jedem Substrat. Das innovative Shutterless Etcher Feature in Kombination mit seinen vielfältigen Prozessparametern ermöglicht schnelles, gleichmäßiges Ätzen und Aschen, ohne Beschädigungen des Substratmaterials zu riskieren. ANGEWANDTE MATERIALIEN DPS II AE G3 ist das perfekte Werkzeug für diejenigen, die komplexe Muster und Strukturen in selbst härtesten Umgebungen erstellen möchten.
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