Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS DPS II AE #9383380 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS DPS II AE (Etch/Asher) ist ein weit verbreitetes Prozesswerkzeug in der Halbleiterindustrie. Es eignet sich für Anwendungen wie Ätz-, Asche-, Descum- und Reaktionsplasma-Reinigungsprozesse. Es eignet sich gut zum Ätzen und Aschen von oxidierten Schichten aus Wafern sowie zur Desinfektion, CMP-Pad-Reinigung und Reinigung von Kontaktlöchern. Es ist in der Lage, eine breite Palette von Wafergrößen von ultradünnen Wafern bis zu Wafern mit 6 Zoll Durchmesser zu verarbeiten. Zu den Hauptkomponenten von AMAT DPS II AE (Etch/Asher) gehören die Hardware - die Stromversorgung, die Plasmaquelle, der Wärmetauscher, der Gasschrank und das Rohr in der Prozesskammer. Das Netzteil ist für den Wechselstrom- oder Gleichstrombetrieb konfigurierbar. Die Plasmaquelle ist ein HF-Generator, der bis zu 40MHz laufen kann und mit einer gepulsten Leistungsabgabefunktion erweitert wurde. Dieser gepulste Ausgang ermöglicht es der HF-Quelle, erfolgreich in Prozessen mit hoher Plasmadichte zu arbeiten. Darüber hinaus trägt es dazu bei, Gebläselärm in einer Produktionsumgebung zu minimieren. Der Wärmetauscher ist aus einer Kupfer/Nickel-Legierung gefertigt und soll die Wärmeeffizienz innerhalb der Prozesskammer maximieren. Der Gasschrank ist mit Ventilen und Filtern ausgestattet, um einen zuverlässigen Einlass von Gasen in die Prozesskammer zu ermöglichen. Schließlich verwendet das innerhalb der Kammer befindliche Rohr einen HF-angepassten Eingang, der die Zuführung eines homogenen Gasstroms zum Wafer unterstützt und auch bei der Kontrolle des Plasmas hilft. Das DPSTM-II AE verfügt über mehrere Funktionen, die es zuverlässig und präzise für Ätz- und Ascheprozesse machen. Es ist mit einer automatisierten Prozessüberwachung und -steuerung ausgestattet, die es dem Bediener ermöglicht, die Betriebsparameter basierend auf den Prozesseigenschaften einzustellen und zu optimieren. Es verfügt auch über ein Kammerkühlsystem, das hilft, die Prozessstabilität zu maximieren und auch thermische Muster in der Kammer sicherzustellen. Darüber hinaus hilft seine Mehrpunkt-Temperaturmesseinheit, die Temperatur der Prozesskammer genau zu messen und einzustellen. ANGEWANDTE MATERIALIEN DPS II AE (Etch/Asher) Maschine bietet auch eine sichere Plattform für Ätz- und Ascheprozesse. Seine Prozesskammer ist für VOC-Abgasraten ausgelegt, die den Umweltvorschriften der meisten Länder entsprechen. Darüber hinaus ist es mit einem fortschrittlichen Sicherheitswerkzeug ausgestattet, das zur Erkennung von Störungen in der Anlage und zur Abschaltung im Notfall ausgelegt ist. Insgesamt ist DPS II AE (Etch/Asher) ein effizientes und zuverlässiges Prozesswerkzeug, das aufgrund seiner Fähigkeit, einheitliche Ätz- und Ascheprozesse in einer kontrollierten Umgebung bereitzustellen, ein wesentliches Werkzeug für die Herstellung von Halbleiterbauelementen ist. Seine fortschrittlichen Eigenschaften und Sicherheitssysteme machen es zu einem idealen Werkzeug für jeden Halbleiterherstellungsprozess.