Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS DPS II #293812243 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS DPS II (Dry Plasma Strip Equipment) ist ein Ätz-/Aschesystem zur präzisen und effizienten Entfernung von Halbleitermaterialien. Es verwendet ein Niedertemperatur-desionisiertes trockenes Argonplasma, um Halbleiterscheiben zu ätzen und ermöglicht so eine schnelle und kostengünstige Möglichkeit, gewünschte Ergebnisse zu erzielen. AMAT DPS II verwendet eine einzigartige Dual-Frequenz-Einheit, die eine einstellbare Leistungseinstellung bietet, so dass der Benutzer spezifische Materialien ansprechen kann, von einfachen Siliziumoxidfilmen bis hin zu hochdichten Metallisierungsschichten. ANGEWANDTE MATERIALIEN DPS II verfügt über einen modularen Aufbau, der eine einfache Aufrüstbarkeit ermöglicht, um die Anforderungen der Kunden zu erfüllen. Es verfügt über hochreines Plasma für geringe Partikelverunreinigung, DC-Vorspannung für eine bessere Entfernung von Siliziumnitrid, Oxid, Polysilizium, Aluminiumoxid und dicken Aluminiumfolien und Gleichmäßigkeitskontrolle sowie eine große Auswahl an Rezepten. Der einzigartige Plasmagenerator nutzt die Zweifrequenzmaschine, die die Leistungseinstellung zum effektiven und präzisen Ätzen verschiedener Materialien einstellt. Der Leistungsbereich von DPS II ist von 500 Watt bis 1800 Watt einstellbar und ermöglicht präzise Ätztiefen bestimmter Materialschichten. Darüber hinaus ermöglicht das Tool die Wahl von HF-Kanalfrequenzen und variablen Ätzzeiten für maximale Steuerung. Es zeichnet sich auch durch eine hochreine entionisierte Argongaszufuhr aus, die eine ausgezeichnete Selektivität und Reinheit der verarbeiteten Schichten bietet. AMAT/APPLIED MATERIALS DPS II ist auch für verbesserte Sicherheit und Bedienkomfort konzipiert. Der Ätzer weist einen inneren Sicherheitsschild auf, der Strahlungsaustritt und Gasaustritte verhindert. Die Plasmasteuerung ist auch mit Sicherheitsvorrichtungen ausgestattet, einschließlich Überstrom- und Überspannungsschutz. Darüber hinaus verfügt der Controller über aktive Sensor- und Überwachungsfunktionen, die Echtzeitdaten über den Ätzprozess liefern. Es verfügt auch über eine intuitive Benutzeroberfläche, die schnelle und genaue Anpassungen ermöglicht. AMAT DPS II ist ein leistungsstarkes und effizientes Ätz-/Aschemodell für die Halbleiterwaferbearbeitung. Es bietet eine präzise Steuerung des Ätzprozesses dank der einstellbaren Leistungseinstellungen und ermöglicht eine gezielte Entfernung bestimmter Materialien. Darüber hinaus ist die Ausrüstung für eine verbesserte Sicherheit ausgelegt, mit einem internen Sicherheitsschild, einem Gasleckschutz und aktiven Sensor- und Überwachungsfunktionen. Darüber hinaus macht die intuitive Benutzeroberfläche die Steuerung des Systems schnell und einfach.