Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS DPS II #9067210 zu verkaufen

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ID: 9067210
Wafergröße: 12"
Chamber assemblies, 12" (2) HP+ TxZ chambers (1) IMP chamber (1) Pre-clean chamber Narrow body loadlock (can be converted to WBLL) available.
AMAT/APPLIED MATERIALS DPS II ist eine fortschrittliche Digital Plasma Source (DPS) Ätz-/Aschermaschine für fortgeschrittene und anspruchsvolle Ätz-, Asche- und oxidative Prozesse. Dieses System beinhaltet eine Gas/Plasma-Box (GPB) -Kammer mit einer unabhängig voneinander variabel betriebenen Elektrode, eine niedrige thermische HF-Masseplattform mit Plasmaquelle bis 600 Watt und eine integrierte Steuereinheit mit mehreren Präzisionsprozesssteuerungsmöglichkeiten. Die vielseitigen Prozessfähigkeiten von AMAT DPS II ermöglichen komplexes Ätzen, Aschen und Oxidation verschiedener Materialien einschließlich hartflüchtiger Materialien. Das einzigartige Design der Maschine ermöglicht die unabhängige Einstellung von Prozessparametern, um die präzisesten Ergebnisse zu erzielen. Dies beinhaltet die Fähigkeit, den Druck, den Gasfluss, die Gaszusammensetzung, die Gasreinheit, die HF-Leistung, die HF-Frequenz, die Plattenspannung und den Plattenstrom gleichzeitig zu steuern, um das höchste Ätzen/Aschen über alle Prozessbedingungen zu ermöglichen. Darüber hinaus ermöglicht das Werkzeug auch eine genaue Einstellung der Lage der gepulsten Ionen in der Kammer, um einen gleichmäßigen Materialabtrag über die Oberfläche zu gewährleisten. APPLIED MATERIALS DPS II Asset bietet Anwendern eine Reihe von Automatisierungs- und Überwachungsfunktionen, um die besten Ergebnisse auf sichere und effiziente Weise zu erzielen. Ein optionaler Auto-Tune Controller ermöglicht die automatische Optimierung der HF-Leistung und HF-Frequenz basierend auf den besten Ätz-/Ascheergebnissen. Die integrierte Schnittstelle der Computerverwaltungsstation ermöglicht es dem Bediener, die Modellkomponenten in Echtzeit durch Anwendungen wie Prozessüberwachung, Parametereinstellung und Rezepturprüfung zu überwachen und zu manipulieren. DPS II bietet zudem die Möglichkeit, komplexe mehrstufige Prozesse in einem einzigen Arbeitsgang auszuführen und damit hochpräzise Ätz- und Ascheprozesse zu ermöglichen. AMAT/APPLIED MATERIALS DPS II wurde entwickelt, um den Anforderungen einer breiten Palette von Anwendern von der Geräteforschung über die Halbleiterherstellung bis hin zu zukünftigen Änderungen der Prozessbedingungen gerecht zu werden. Sehr zuverlässige und wiederholbare Ätz-, Asche- und Oxidationsprozesse werden durch AMAT DPS II erreicht, was es zu einer idealen Wahl für Dünnschichtabscheidungs- oder Ätz- und Ascheanwendungen macht, bei denen Zuverlässigkeit und Genauigkeit an erster Stelle stehen.
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