Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS DPS2AE #293603812 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS DPS2AE Etch/Asher Equipment ist ein fortschrittliches Plasma-Trockenätzsystem, das entwickelt wurde, um Hochleistungs-Ätzprozesse auf Submikron-Präzisionsniveau bereitzustellen. Es ist ein zuverlässiges, einfach zu bedienendes Werkzeug, das sowohl für Forschung als auch für Produktionsanwendungen geeignet ist. AMAT DPS2AE Etch/Asher Unit ist eine High-End-Plasma-Trockenätzmaschine mit integrierten planaren Magnetrons, einem computergesteuerten Gasmassenstrom-Förderwerkzeug und einem Hochdruck-Doppelkammerdesign. Diese Ressource eignet sich ideal zum Ätzen einer breiten Palette von Halbleitermaterialien, einschließlich Materialien auf Siliziumbasis, SiGe und GaAs. Das Modell unterstützt auch die statistische Prozesskontrolle, so dass Anwender ihre Prozessabläufe automatisieren und die Qualitätssicherung verbessern können. APPLIED MATERIALS DPS2AE Etch/Asher Equipment wurde entwickelt, um die Ätzanforderungen der heutigen fortschrittlichen Halbleiterherstellungstechnik zu erfüllen. Seine Doppelkammer-Konstruktion bietet Präzision und ausgewogene Prozesssteuerung, und seine Hochgeschwindigkeits-Schaltventile sorgen für Echtzeit-Reaktion auf Ätzprozessbedingungen. Die In-situ-Steuerung des Systems ist auch in der Lage, Ätzprozessparameter nach benutzerdefinierten Vorgaben zu optimieren. DPS2AE Etch/Asher Unit verwendet fortschrittliche Software, um den Betrieb zu erleichtern. Die Benutzeroberfläche enthält detaillierte Parametereinträge, Lückenerkennung, Prozessablaufprogrammierung und Datenprotokollierung. Diese Software bietet auch automatische Ätzrezepte für die anspruchsvollsten Prozessanforderungen. AMAT/APPLIED MATERIALS DPS2AE Etch/Asher Machine ist in der Lage, hohe Ätzqualität bei sehr geringer Partikelbildung zu erreichen. Es bietet auch eine hervorragende Materialverträglichkeit und kann wiederholt aluminiumhaltige Schichten ätzen. Dieses Werkzeug kann für ausreichende Ätzgleichmäßigkeit sorgen und in einer Vielzahl von Prozessschritten eingesetzt werden, einschließlich Ätzen von flachen Gräben, Blackout/Overfill-Ätzen und Planarisierung. Schließlich bietet AMAT DPS2AE Etch/Asher Asset eine hervorragende Prozesskonsistenz. Es bietet Prozesswiederholbarkeit, Stabilität und Endpunktsteuerung und liefert die Genauigkeit und Genauigkeit, die für hochkritische Ätzaufgaben erforderlich sind. Das Modell reduziert auch gefährliche Abfälle und ist damit eine umweltfreundliche Lösung. Durch die Kombination all dieser Merkmale ist APPLIED MATERIALS DPS2AE Etch/Asher Equipment ein zuverlässiges Hochleistungssystem zum Ätzen und Aschen von Halbleitermaterialien.