Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS G5 #9263764 zu verkaufen

ID: 9263764
System (3) A-Si Process chambers Substrate size: 1100 mm x 1300 mm (3) Susceptors : Temperature <230°C (3) Load locks: DSSL Dual arm vacuum robot (3) MKS RPSC EDWARDS Neptune Abatement (3) RF Generators: 40 MHz (4KW) (3) Gas panels: NF3, Ar, N2, SiH4, H2, PH3, B2H6 J&R AUTOMATION Loader Includes: (2) Abatement systems Power supply rack Transformer Heat exchanger Exhaust fan module Gas panel module / Rack Main AC cabinet Remote AC cabinet (3) PECVD Process modules Loadlock Module Monolith module (Transfer chamber) Robot Robot enclosure (with misc, panels and trays) Robot substrate storage module Loader modules (2) Loader controllers Wafer cassette loader Vacuum forelines Piping Seismic brackets Pump racks Umbilicals Brackets Crane adapter Does not include: (3) EDWARDS iXL500Q Pumps (3) EDWARDS iXH3030 Pumps.
AMAT/APPLIED MATERIALS G5 ist ein Präzisionsätz-/Aschewerkzeug zur Halbleiterherstellung und -verpackung. Es ist für eine effiziente photolithographische Musterung, Ätzung und Aschereinigung konzipiert. AMAT G5 verfügt über ein All-in-One-Design mit einer benutzerfreundlichen Benutzeroberfläche und hoher Durchsatzleistung. Es ist auch mit einem niedrigen Stromverbrauch und einem niedrigen Wartungsdesign sowie einer Vielzahl von anpassbaren Verarbeitungsoptionen ausgestattet. ANGEWANDTE MATERIALIEN G5 bietet halbstandardisierte und breite untere Prozesskammern, wodurch es für verschiedene Ätz-/Ascheprozessanforderungen geeignet ist. Es basiert auf Hochfrequenz (RF) und Plasmaquellen und ist sowohl zum Ätzen als auch zur Aschereinigung in der Lage, klar definierte Muster in dünnen Schichten aus dielektrischem Material zu erzeugen. Sein regelbarer variabler Frequenzbereich von 27-250kHz ermöglicht ein zuverlässiges und genaues Ätzen von Mikron-Präzisionsmerkmalen. Darüber hinaus bietet G5 einen überlegenen Waferdurchsatz und Prozessgleichmäßigkeit. Es verfügt über eine eingebettete Wafer-Kassette und einen integrierten Auto-Load-Port, der sicherstellt, dass die Wafer-Übertragung immer erfolgreich ist. Sein automatisiertes Wafer-Handling-System bietet die Flexibilität, Wafer in weniger als 10 Sekunden zwischen verschiedenen Kassetten zu bewegen. Die verstellbare Wafer-Tragaufhängung ermöglicht die Verarbeitung einer Vielzahl von Wafergrößen. AMAT/APPLIED MATERIALS G5 ist auch mit mehreren In-situ-Überwachungsfunktionen ausgestattet, die niedrige Temperatur- und Prozessungleichförmigkeiten schnell erkennen und identifizieren. Sein modernstes Gasverteilungssystem bietet eine präzise und gleichmäßige Durchflussregelung sowie eine überlegene Qualität der Gas-zu-Substrat-Bedingungen. Schließlich werden seine eingebauten Sicherheits- und Kontaminationsverhinderungsfunktionen durch sein Plasmabedeckungssystem „Hot Wall“ und seine Funktion „Aktive Oberflächenquellenreinigung“ verbessert. Insgesamt ist AMAT G5 ein leistungsstarkes Ätz-/Aschewerkzeug zur zuverlässigen Herstellung von präzisen und leistungsstarken Mustern in dünnen Materialschichten. Dank seiner hocheffizienten Verarbeitungsfähigkeit und seiner robusten konstruktiven Konstruktion eignet es sich für das zuverlässige Ätzen/Veraschen von mikrogroßen Merkmalen und kurzen Zykluszeiten. ANGEWANDTE MATERIALIEN G5 bietet auch überlegenen Waferdurchsatz, zuverlässige Prozessgleichmäßigkeit und leicht einstellbare Druck-, Temperatur- und Gasdurchflusseinstellungen.
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