Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS G5 #9271269 zu verkaufen

AMAT / APPLIED MATERIALS G5
ID: 9271269
Weinlese: 2012
Etcher 2012 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS G5 ist eine Art Ätzer/Ascher, die im Halbleiterherstellungsprozess verwendet wird. Es ist eine Art Trockenätztechnologie, die die Gesamtbetriebskosten senkt und eine größere Kontrolle über die Geräteherstellung ermöglicht. AMAT G5 nutzt eine horizontale Ätzorientierung, um einen gleichmäßigen Gasfluss über den gesamten Wafer zu erzeugen. Dieses Gerät verwendet sowohl Vakuum als auch Hochdruckplasma, um exponierte Waferoberflächen zu ätzen. Das Vakuum wirkt, um Partikel und andere Verunreinigungen zu entfernen, die während des Ätzvorgangs auf dem Wafer abgeschieden werden. Mit dem Hochdruckplasma wird die Oberfläche des Wafers mit hoher Präzision und Genauigkeit geätzt. ANGEWANDTE MATERIALIEN G5 ist auch skalierbar und konfigurierbar, so dass es in der Lage, eine Vielzahl von komplexen Mustern mit Leichtigkeit zu produzieren. Der modulare Aufbau macht es einfach, neue Rezepte zu entwickeln, Prototypen zu testen und die Produktivität zu steigern sowie zuverlässige Verarbeitungsergebnisse zu gewährleisten. Das System kann mehrere Prozesskammern mit der Fähigkeit unterstützen, Produkte mit bis zu 8 Zoll Wafergrößen zu verarbeiten. G5 bietet auch eine Auswahl von zwei Ätzmodi; Einzelwafer und Batch-Wafer-Modus von bis zu 9 Wafern. AMAT/APPLIED MATERIALS G5 ist auch mit fortschrittlichen Steuerungen und Sicherheitsfunktionen ausgestattet. Die Prozesskammer verfügt über eine integrierte webbasierte Schnittstelle mit Touchscreen-Steuerungen für die automatisierte Prozesseinrichtung und -überwachung. Es hat in Schutzfunktionen wie Flanschleckage, Prozesskammer Überdruckabschaltung, integrierte Brandunterdrückung und ausfallsichere Kühlsysteme eingebaut. Das Gerät verfügt zudem über integrierte Gas-, Strom- und Kühlsysteme für zuverlässige und wiederholbare Prozessergebnisse. AMAT G5 ist ein sehr leistungsfähiger und vielseitiger Ätzer/Ascher, der für eine Vielzahl von Anwendungen geeignet ist. Diese Maschine bietet schnelle Prozesssteuerung und einheitliche Ergebnisse und ist damit ein ideales Werkzeug für Forschung und Entwicklung in der Halbleiterindustrie. Dieses Tool ist in der Lage, zuverlässige und wiederholbare Prozessergebnisse zu liefern und gleichzeitig kostengünstige, energieeffiziente Lösungen anzubieten.
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