Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Metal chamber for Centura DPS II 532 #293665695 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS Metallkammer für Centura DPS II 532 (ein Ätzer/Ascher) bietet eine präzise und wiederholbare Prozesssteuerung sowie Präzisionsätzen und Aschen der für die Halbleiter- und MEMS-Geräteherstellung integralen Materialien. Die Kammer ist aus einer dreischichtigen verbundenen Edelstahlbaugruppe aufgebaut, die überlegene Korrosionsbeständigkeiten und thermische Regulierung auf robuste und langlebige Weise ermöglicht, was eine hervorragende wiederholbare Leistung über längere Einsatzzeiten ermöglicht. Die Kammer hat ein Volumen von 5,32 Litern (1,4 Gallonen) und arbeitet bei bis zu 230 Grad Celsius (446 Grad Fahrenheit). Die Kammer ist mit einem innovativen Dreikammer überlappenden Deckel Design, das dem Benutzer mit einer unübertroffenen Kombination von Leistung, Präzision und Haltbarkeit. Die überlappenden Deckel gewährleisten eine gleichmäßige Verteilung der Prozessparameter und bieten gleichzeitig einen größeren Prozessraum für eine verbesserte thermische Kontrolle und Gleichmäßigkeit. Die Centura DPS II 532-Kammer verfügt über elektronische Durchflusssteuerung, Temperatur, Druck, Strömungsgleichförmigkeit, Gasspülung und Lüftergeschwindigkeit und Schalteinstellungen zur Überwachung und Steuerung von Prozessen. Darüber hinaus sorgt die Kammer für eine präzise Plasmagleichförmigkeit und Gleichmäßigkeit der Bearbeitungsendpunkte. Die Kammer weist außerdem einen integrierten quarzseitigen Schild, einen Trägheitsantriebsverschluss, Prozessgasstrom und Steuerabgas auf und ist sowohl für hohe Alkoven als auch für niedrige Alkoven-Stromzufuhr geeignet. Die Centura DPS II 532 verfügt auch über eine fortschrittliche Plasmakontrolltechnologie, die für die exotherme und endotherme Prozesssteuerung programmiert werden kann und eine optimale Waferuniformität und Wiederholbarkeit bietet. Die fortschrittliche Plasmakontrolle erhöht den Durchsatz bei gleichzeitiger Aufrechterhaltung einer niedrigen Ätzrate und eines hohen Durchsatzes. Neben der fortschrittlichen Plasmasteuerung verfügt die Centura DPS II 532 über ein mehrschichtiges Fluorkohlenwasserstoff-Dichtungssystem, das eine überdruckvolle Umgebung gewährleisten und verhindern kann, dass jede Säureatmosphäre in die Kammer eindringt oder diese verlässt. Dies bietet eine ausgezeichnete Prozessstabilität und Konsistenz. Die Centura DPS II 532 wurde entwickelt, um den sich ständig ändernden Anforderungen der Halbleiter-, MEMS- und Fertigungsmärkte gerecht zu werden. Die Centura DPS II 532 bietet die Präzision und Wiederholbarkeit, um höchste Qualität und konsistente Endprodukte zu gewährleisten.