Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 Mark II XT Optima #9213667 zu verkaufen

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ID: 9213667
Etcher (2) Etch chambers.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 Mark II XT Optima ist ein Präzisionsätzer/Ascher, der für feinere Dimensionssteuerung und Konsistenz bei der Hochvolumenherstellung von photonischen, mikroelektronischen und Halbleiterbauelementen konzipiert ist. Es nutzt eine elektrochemische Reaktion, um die Abscheidung von dünnen Schichten aus leitfähigen und nichtleitfähigen Metallen, Oxiden und Nitriden auf einer Halbleiterscheibenoberfläche zu unterstützen, was photonische und elektronische Anwendungen ermöglicht. AMAT P5000 Mark II XT Optima Ätzer/Ascher ist ein kompaktes und modulares System aus einer Vielzahl von Materialien, einschließlich Vakuum-Edelstahl, Aluminium-Druckguss und fortschrittliche Polyester-basierte Verbundwerkstoffe. Eine integrierte laminare Strömungskammer sorgt für eine staub- und partikelfreie Umgebung, um präzise Ätz- und Ascheprozesse zu fördern. Dieses geschlossene System umfasst integrierte Umwelt- und Sicherheitsüberwachungssysteme, um sicherzustellen, dass gefährliche Gase und Partikel enthalten sind und die Arbeitsumgebung sicher ist. ANGEWANDTE MATERIALIEN P5000 Mark II XT Optima verwendet mehrere fortschrittliche Ätz- und Ascheprozesse, um hochpräzise, hochwertige Teile und Komponenten herzustellen. Seine elektrochemischen Ätz- und Ascheprozesse umfassen die Verwendung einer verdünnten, wässrigen Lösung von reaktiven Chemikalien und eines elektrischen Stroms zur Auflösung und/oder Oxidation von Materialien auf einer Oberfläche, um dünne Filme zu erzeugen oder unerwünschte Materialien zu entfernen. Je nach Bedarf des Projekts können mehrere Ätz- und Aschetechniken gleichzeitig eingesetzt werden, um bessere Ergebnisse zu erzielen. Der Kern von P5000 Mark II XT Optima ist ein Elektronenstrahl-Verdampfer-Modul, das hochpräzise und kontrollierte Nanopattern, Nanostrukturen und Nanowire-Metallisierung erzeugen kann. Es verfügt über eine Ionenquelle sowie eine Quarzabscheidekammer und kann für Hochleistungsätzen und -aschen konfiguriert werden. Das System umfasst auch eine Gasverteilungseinheit, um die notwendigen Aerosol-Abscheidungsgase bereitzustellen, ein Vakuum-Subsystem, um Luft aus der Kammer zu evakuieren, und ein hochpräzises Bewegungssteuermodul, um genaue Abmessungen zu erreichen. AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 Mark II XT Optima nutzt eine Reihe von Ätz- und Aschelösungen, um Strukturen wie Nanodrähte, Nanopatterns und Nanostrukturen zu schaffen. Seine hochpräzisen mehrstufigen Ätz- und Aschetechniken ermöglichen eine präzise Kontrolle der Dicken der Folienschichten. Die integrierte laminare Strömungskammer reduziert stark die Menge an Staub und Partikeln, während ihre fortschrittlichen Sicherheits- und Umweltüberwachungssysteme eine sichere Arbeitsumgebung gewährleisten. Der modulare Aufbau und die präzisen Ätz- und Ascheprozesse von AMAT P5000 Mark II XT Optima machen es zu einer zuverlässigen und effizienten Wahl für die Herstellung von hochvolumigen Halbleiter-, Mikroelektronik- und Photonenkomponenten.
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