Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Plasma II #293604234 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS Plasma II Asher/Etcher ist eine industrielle Ausrüstung zum Reinigen und Ätzen von Substraten. Dieses System besteht aus einer abgedichteten Kammer mit einer Stromversorgung, Steuerungen und einer Gasfördereinheit. Die Kammer wird durch eine Gasumwälzmaschine gekühlt, die die Kammer auf einer niedrigen Temperatur hält, die Oxidation verhindert und eine verbesserte Prozesssteuerung ermöglicht. Das Werkzeug wurde entwickelt, um einen präzisen und wiederholbaren Plasmaätzprozess zu liefern. Der Ätzprozess beinhaltet die Verwendung von Hochfrequenz-Hochfrequenzenergie (RF), um ein Gas, typischerweise eine Kombination aus Argon, Sauerstoff und Fluor, in ein Plasma umzuwandeln. Das Plasma wird dann auf das Substrat geleitet, wo es die Verunreinigungen wegätzt, wodurch eine saubere und gleichmäßige Oberfläche entsteht. Das in AMAT Plasma II Asher/Etcher verwendete Netzteil ist für die Lieferung hoher HF-Energie ausgelegt und in einer Vielzahl von Frequenzen verfügbar, darunter 13,56 MHz, 2,45 GHz und 27 MHz. Auf diese Weise können Benutzer den Ätzprozess an ihre spezifischen Anforderungen anpassen. Die Stromversorgung ermöglicht es dem Benutzer auch, den Plasmaleistungspegel einzustellen, so dass er die Ätztiefe steuern kann. Die Gas Delivery Asset wird verwendet, um die Art und Menge des im Ätzprozess verwendeten Gases zu steuern und ist in der Lage, sowohl hohe als auch niedrige Gasdrücke zu liefern. Dadurch können Anpassungen für unterschiedliche Ätzvorgänge vorgenommen werden. Der Gasstrom ist einstellbar, ebenso wie die Art und Reinheit des verwendeten Gases. Die Bedienelemente müssen auch ordnungsgemäß eingerichtet werden, um sicherzustellen, dass der Ätzvorgang wie gewünscht abläuft. Der Anwender kann verschiedene Parameter einstellen, wie Prozesszeit, Gasdurchfluss, Plasmaleistung und Bildschirmanweisungen zur Änderung der Prozessbedingungen. ANGEWANDTE MATERIALIEN Plasma II Ascher/Ätzer ist in der Lage, hervorragende Ergebnisse zu erzielen und den Anwendern ein sauberes und gleichmäßiges geätztes Substrat ohne Unterschiede zwischen den Teilen zu bieten. Dieses Modell ist in der Lage, verschiedene Materialien wie Silizium, Glas und Quarz zu ätzen und bietet eine Vielzahl von Anwendungen. Es ist eine zuverlässige Ausrüstung mit geringem Wartungsaufwand und somit ideal für eine Vielzahl von Ätzprozessen in Forschungs- und Industrielaboren.