Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS PVD HTHU #179312 zu verkaufen

ID: 179312
Chamber 11.3 source Assy (0010-75219) Magnet (0010-20389) Elbow (0040-21068) 2 position Gate valve 2 phase Cryo pump Wafer Lift (0010-76136) Motorized (0010-76137) Inner Zone Controller (0010-21055) Hinge (0040-20697).
AMAT/APPLIED MATERIALS PVD HTHU ist ein Ätzer/Ascher zur Dünnschichtabscheidung und anderen Oberflächenmodifikationen in einer Vakuumumgebung. Das Gerät ist speziell für die hochpräzise Substratverarbeitung wie Ätzen und Aschen, Abscheiden von dünnen Filmen, Oxidschichtabscheidung und Passivierung von IC-Geräten ausgelegt. AMAT PVD HTHU-System besteht aus 2 primären Komponenten, der Ätz- oder Aschekammer und der Vakuumeinheit. Die Ätz- oder Aschekammer ist ein Edelstahlgehäuse, in dem die Prozessgase, Substrate und andere Verarbeitungsgeräte untergebracht sind. Es wurde entwickelt, um die Verarbeitung von Hochtemperatursubstraten zu unterstützen und den Reinraum- und Sicherheitsstandards zu entsprechen. Die Vakuummaschine dient zur Regelung des Drucks und der Strömung von Gasen durch die Ätz-/Aschekammer. Es besteht aus einer Vakuumpumpe, Drucksensoren und Ventilen zur Druckregelung. ANGEWANDTE MATERIALIEN PVD HTHU verwendet eine einzigartige Technologie namens hybride thermische Prozesse (HTHU), um dünne Filme und andere Materialien abzuscheiden oder zu ätzen. Dabei wird eine Kombination aus Wärme und Plasma verwendet, um die Folien entweder abzuscheiden oder zu ätzen. Das Substrat wird auf nahezu schmelzende Temperaturen erwärmt, während ein Plasma erzeugt wird, das das Ätzen oder Bilden von Filmen auf der Substratoberfläche weiter unterstützt. Dieser Vorgang wird mehrfach wiederholt, um die gewünschten Eigenschaften zu erzeugen. Die entstehenden Filme bzw. Muster sind sehr dünn und präzise gesteuert. PVD HTHU kann auch für andere Substratoberflächenmodifikationen wie Oxidschichtabscheidung, Passivierung und Adhäsion verwendet werden. Diese Prozesse werden alle in derselben Ätz-/Aschekammer mit demselben Vakuumwerkzeug durchgeführt. Dies ermöglicht integrierte und effektive Oberflächenmodifikationen für viele Geräteherstellungsprozesse. AMAT/APPLIED MATERIALS PVD HTHU ist ein fortschrittliches Ätz-/Aschegut, das eine präzise und zuverlässige Substratverarbeitung für die moderne FAB-Umgebung bietet. Es ist für hochpräzise Verarbeitung ausgelegt, für viele Substratmaterialien verfügbar und kann für verschiedene Dünnschichtabscheidung und andere Oberflächenmodifikationen verwendet werden. AMAT PVD HTHU ist ein wesentliches Ätz-/Aschemodell für viele Verfahren zur Geräteherstellung.
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