Gebraucht AMMT MPSB 200 #293830097 zu verkaufen

Hersteller
AMMT
Modell
MPSB 200
ID: 293830097
Wafergröße: 8"
Porous silicon etcher, 8" Tank volume: ~3.8 Litre Separation plate: ∅ 189 mm Edge exclusion area: 9 mm HF Exposed area: 182mm (2) Electrodes Diameter: 190 mm Platinum meshed electrode Platinum (Pt) plate Silicon sacrificial electrode Optical window size: ∅ 189 mm Sapphire window backed: 1 mm Quartz disk Air pressure: 6 bar HF-Ethanol mixture Temperature range: 10°C – 30°C Fluidic drain: PTFE hose (ID: 6mm OD: 8 mm) Wafer holders: 2", 3", 4", 5", 6" ,8" Processing side (Left / Anode): Si: 46 mm PT: 55 mm Electrolytical contact side (Right / Cathode): Si: 46 mm PT: 55 mm.
AMMT MPSB 200 ist eine Hochleistungs-Ätz-/Aschermaschine, die in der Halbleiterindustrie für verschiedene Prozesse wie Substratätzen, Photoresistentfernung, Oberflächenmodifizierung und Reinigung weit verbreitet ist. Diese fortschrittliche Ausrüstung ist bekannt für ihre überlegenen Verarbeitungsfähigkeiten, präzise Steuerung und Zuverlässigkeit, was sie zu einem unverzichtbaren Werkzeug für die Herstellung von Halbleiterbauelementen und Forschungslabors macht. MPSB 200 verfügt über ein vielseitiges Design, das eine breite Palette von Prozessfähigkeiten ermöglicht, so dass es für eine Vielzahl von Anwendungen geeignet ist. Das System ist mit mehreren Gaseinlässen, einem leistungsstarken HF-Generator und einer ausgeklügelten Steuereinheit ausgestattet, die eine präzise Abstimmung von Prozessparametern wie Druck, Temperatur, Leistung und Gasdurchfluss ermöglicht. Diese Flexibilität ermöglicht es Anwendern, die Maschine auf spezifische Prozessanforderungen abzustimmen und gewünschte Ergebnisse zu erzielen. Eines der Hauptmerkmale von AMMT MPSB 200 ist seine Plasmaätzfähigkeit, die eine präzise und kontrollierte Materialabtragung von der Substratoberfläche ermöglicht. Plasmaätzen ist ein Trockenätzverfahren, das in der Halbleiterherstellung weit verbreitet ist, um präzise Muster und Strukturen auf dem Substrat zu erzeugen. Das Werkzeug verwendet eine Plasmaquelle, die typischerweise mit einer Kombination von Gasen wie Sauerstoff, Chlor oder Fluor erzeugt wird, um Material selektiv von der Substratoberfläche zu entfernen. Der Ätzprozess wird typischerweise unter kontrollierten Bedingungen durchgeführt, um eine Gleichmäßigkeit und Reproduzierbarkeit der geätzten Muster zu gewährleisten. Neben dem Plasmaätzen verfügt das MPSB 200 auch über Veraschungsmöglichkeiten, die für die Photoresistentfernung und die Oberflächenreinigung verwendet werden. Asche ist ein Trockenreinigungsprozess, bei dem Plasma auf Sauerstoffbasis verwendet wird, um organische Rückstände von der Substratoberfläche abzubauen und zu entfernen. Dieser Prozess ist in der Halbleiterherstellung wesentlich, um Substratoberflächen vor und nach Ätzprozessen zu reinigen und die Reinheit und Qualität des Endprodukts zu gewährleisten. AMMT MPSB 200 ist mit fortschrittlichen Sicherheitsfunktionen und Steuerungen ausgestattet, um den sicheren Betrieb der Anlage zu gewährleisten. Das Modell ist mit eingebauten Sicherheitsvorkehrungen zur Vermeidung von Überhitzung, Überdruck und Gasleckagen, Minimierung des Unfallrisikos und Gewährleistung der Bedienersicherheit konzipiert. Zusätzlich ist das Gerät mit einer benutzerfreundlichen Schnittstelle ausgestattet, die es dem Bediener ermöglicht, die Prozessparameter in Echtzeit zu überwachen und zu steuern, wodurch Prozessbedingungen leicht optimiert und gewünschte Ergebnisse erzielt werden können. Insgesamt ist MPSB 200 ein Hochleistungs-Ätz-/Aschersystem, das erweiterte Funktionen, präzise Steuerung und Zuverlässigkeit für eine Vielzahl von Halbleiterherstellungsprozessen bietet. AMMT MPSB 200 ist mit seinem vielseitigen Design, Plasmaätz- und Aschefunktionen sowie fortschrittlichen Sicherheitsmerkmalen ein wertvolles Werkzeug für Halbleiterhersteller und Forschungslabore, die qualitativ hochwertige und präzise Ergebnisse in ihren Prozessen erzielen möchten.
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