Gebraucht ANELVA I 2100 SRE #293819948 zu verkaufen
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ID: 293819948
Wafergröße: 8"
Weinlese: 2001
Etcher, 8"
(3) Process modules
2001 vintage.
ANELVA I 2100 SRE ist eine hochmoderne Ätz-/Aschermaschine, die hochpräzise und effiziente Prozessfähigkeiten für Halbleiterherstellungsanwendungen bietet. Dieses fortschrittliche Werkzeug wird von der ANELVA Corporation, einem führenden Anbieter von Vakuum-Prozessanlagen für die Halbleiterindustrie, hergestellt. Das Modell I 2100 SRE wurde speziell entwickelt, um den hohen Anforderungen moderner Halbleiterherstellungsanlagen gerecht zu werden. Es bietet modernste Funktionen und Fähigkeiten, um hochleistungsfähige Ätz- und Ascheprozesse zu ermöglichen. Eines der Hauptmerkmale von ANELVA I 2100 SRE ist die fortschrittliche Vakuumtechnologie, die eine präzise Steuerung der Ätz- und Ascheprozesse ermöglicht. Das System ist mit hochwertigen Vakuumpumpen und Pumpsystemen ausgestattet, um die erforderlichen Vakuumwerte für eine optimale Prozessleistung zu erreichen und aufrechtzuerhalten. Dadurch wird sichergestellt, dass die Verarbeitungskammer frei von Verunreinigungen und unerwünschten Gasen bleibt, was ein sauberes und gleichmäßiges Ätzen/Aschen von Halbleitersubstraten ermöglicht. I 2100 SRE ist auch mit einer ausgeklügelten Plasmaerzeugungseinheit ausgestattet, die für die Herstellung der reaktiven Spezies, die zum Ätzen oder Aschen der Halbleitermaterialien benötigt wird, unerlässlich ist. Die Maschine nutzt Hochfrequenz (RF) Plasmaquellen und passende Netzwerke, um eine hochreaktive Plasmaumgebung innerhalb der Bearbeitungskammer zu schaffen. Dieses Plasma kann auf unterschiedliche Ätz-/Ascheanforderungen zugeschnitten werden und ermöglicht eine präzise Kontrolle über Verarbeitungsparameter wie Ätzrate, Selektivität und Gleichmäßigkeit. Neben den fortschrittlichen Vakuum- und Plasmasystemen verfügt ANELVA I 2100 SRE über ein umfassendes Tool zur Prozesssteuerung und -überwachung. Die Anlage ist mit einer benutzerfreundlichen Schnittstelle ausgestattet, mit der Anwender Prozessparameter wie Gasdurchflussraten, Druckniveaus und HF-Leistungseinstellungen einfach programmieren und anpassen können. Echtzeit-Überwachungsfunktionen ermöglichen es Betreibern, wichtige Prozessmetriken zu verfolgen und Echtzeit-Anpassungen vorzunehmen, um die Prozessleistung zu optimieren und konsistente Ergebnisse sicherzustellen. I 2100 SRE wurde entwickelt, um eine breite Palette von Halbleitermaterialien und Prozesschemie zu unterstützen, was es zu einem vielseitigen Werkzeug für verschiedene Ätz- und Ascheanwendungen macht. Das Modell kann verschiedene Substratgrößen und -formen aufnehmen und ermöglicht Flexibilität bei der Verarbeitung verschiedener Arten von Halbleiterscheiben und -bauelementen. Seine robuste Konstruktion und Konstruktion gewährleisten Zuverlässigkeit und Langlebigkeit, auch in großvolumigen Fertigungsumgebungen. Insgesamt ist ANELVA I 2100 SRE ein modernes Ätzer/Ascher-Equipment, das überlegene Leistung, Präzision und Flexibilität für Halbleiterherstellungsanwendungen bietet. Mit seinen fortschrittlichen Vakuum- und Plasmatechnologien, umfassenden Prozesskontrollfunktionen und der Vielseitigkeit im Umgang mit verschiedenen Materialien und Chemien ist dieses System eine ideale Wahl für Halbleiterfabriken, die qualitativ hochwertige Ergebnisse erzielen und die Produktivität in ihren Ätz- und Ascheprozessen maximieren möchten.
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