Gebraucht AXCELIS / FUSION ES3 #293617650 zu verkaufen

ID: 293617650
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2001
Plasma asher, 12" Chiller Pumps Gasboxes EDWARDS IH1800NRV Pump Running time: 10,000 / 12,000 Hours Spare parts: Chamber module Chamber Main PC (3) Microwaves Lampcontroller (75) Lamps Touchscreen SMC Foreline valve Throttle valve 2001 vintage.
AXCELIS/FUSION ES3 ist ein leistungsstarker, zuverlässiger Ascher/Ätzer für die Herstellung mikroelektronischer Geräte. Das Gerät verfügt über eine einzige Ladeschloss und eine hohe Zuverlässigkeit Wafer Handhabung Kassettensystem, um die höchsten Definition Ätz- und Ascheprozesse zu liefern. Dieses Gerät verwendet eine ausgeklügelte Strahlstrahllinien-Steuerungsmaschine zur präzisen Positionierung von Fokus und Strahlausrichtung, die Gleichmäßigkeit und Schichtsteuerung für die Ätz- und Aschesteuerungsanforderungen heutiger fortschrittlichster Geräte bietet. FUSION ES3 Ätz-/Ascherkammer ist für einen hohen Waferdurchsatz ausgelegt, mit der Fähigkeit, bis zu 30 Wafer gleichzeitig zu verarbeiten. Es verfügt über eine schnelle Schaltzeit und feine Einstellung des Fokus und Strahl für überlegene Wiederholbarkeit. Das Strahlbalken-Steuerwerkzeug ist selbstjustierend und gut geeignet für mehrstufiges Ätzen und Aschen, mit konvexer und konkaver Profilsteuerung sowie Gleichmäßigkeit und scharfer Kantensteuerung. Die Anlage verfügt über die Fähigkeit, Aluminosilikatglas, Quarz, SiC und SiG zu ätzen und zu aschen, wobei Standardprozesse wie PLD, IPD und PECVD verfügbar sind. Die Kammer hat eine isolierte Substratvorspannung, um Schussgeräusche zu minimieren, die Partikelladungsakkumulation zu reduzieren und die Kontrolle und Gleichmäßigkeit des Nanometers zu verbessern. Das Modell enthält auch erweiterte Funktionen wie variable Kammertemperaturregelung und Ausstoßsteuerung, um die höchste Qualität Ätzmuster zu gewährleisten. AXCELIS ES3 verwendet den neuesten Hochleistungs-Hochfrequenzgenerator, der eine stabile Leistung mit kapazitiver Anpassung hoher Dichte für hohe Leistung und hohe Ausbeute bei seinen Ätz- und Ascheprozessen bietet. Der HF-Generator und die Kammer sind so konzipiert, dass sie Hot Spots verhindern und eine hohe Homogenität bieten, was schnellere Läufe und höhere Erträge ermöglicht. ES3 Ätzer/Ascher ist mit seiner zuverlässigen und bewährten Wafer-Handhabungskassette und kostengünstigen, einheitlichen Ätzprozessen auf maximalen Ertrag ausgelegt. Seine Suite an fortschrittlichen Funktionen, kombiniert mit seiner schnellen Schaltzeit und der präzisen Strahlsteuerung, macht dieses Gerät ideal für die fortschrittlichsten Mikroelektronik-Geräte.
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