Gebraucht AXCELIS / FUSION Gemini GES #293654522 zu verkaufen

AXCELIS Gemini GES ist ein hochmoderner Ätzer/Ascher, der speziell für die Tiefsubmikron-Halbleiterverarbeitung entwickelt wurde. Es bietet beispiellose Möglichkeiten zum Ätzen und Aschen einer Vielzahl von Materialsubstraten, darunter Silizium, Germanium, Indiumphosphid (InP), Galliumarsenid (GaAs) und Titan-Silizium-Oxynitrid (TiSiOX). Gemini GES ist eine sehr vielseitige Ausrüstung, die eine ganze Reihe von Anwendungen unterstützt, von 1xnm bis 90nm. AXCELIS Gemini GES basiert auf einer dynamischen Doppelkammer-Parallelplattenarchitektur, die eine hervorragende Temperatur- und Gasverteilungsstabilität sowie eine Unterangström-Präzisionsregelung bietet. Seine zwei unabhängigen Kammern ermöglichen sowohl hochdichtes Plasmaätzen als auch hochauflösendes Partikelstrahlaschen. Dieses System ist in der Lage, Wafer mit einem Durchmesser von bis zu 12 "zu verarbeiten und verfügt über einen patentierten Hochdurchsatzübertragungsmechanismus, der die Produktivität maximiert. Gemini GES verfügt zudem über eine robuste Sicherheitseinheit, die der Maximierung der Bedienersicherheit und Umweltverträglichkeit dient. Es ist mit Funktionen wie intelligente saubere und Zero-Suface-Open-Source-Systeme und eine kontinuierliche Überwachung der Anwenderexposition gegenüber Gefahrstoffen ausgestattet. AXCELIS Gemini GES wurde entwickelt, um den Anforderungen sowohl der Produktions- als auch der Forschungs- und Entwicklungsbereiche mit ausgezeichneter Prozesswiederholbarkeit und -durchsatz gerecht zu werden. Die Maschine verwendet einen automatisierten Prozessrezept-Generator und ein intuitives Display, das Benutzer durch die Ätz- und Ascheprozesse führt. In Bezug auf die Hardware ist das Werkzeug in der Lage, eine Vielzahl von Prozessen durchzuführen, einschließlich Ätzen, Ätzband und Feuchtigkeitsentfernung. Es beherbergt mehrere Plasmaätz- und Aschekammern sowie Prozessgas- und Ätz-/Stripperliefersysteme, die ein breites Anwendungsspektrum ermöglichen. Gemini GES verfügt auch über eine leistungsstarke Software-Suite, bekannt als Process Agent. Diese Software bietet erweiterte Steuerungsfunktionen wie Wafer-Musterung, Line-Edge-Roughness-Messung und Prozess-Feedback. Der integrierte Datenlogger und die Expertenressource bieten schnelle Feedback- und Datenmanagement-Tools zur Überwachung von Prozesstrends. Das erweiterte kontaktlose Kammermodell gewährleistet eine genaue und wiederholbare Plasmabedeckung, während eine integrierte Partikel-Injektionskammer eine punktgenaue Kontrolle über die Richtung und Genauigkeit des Resiststreifens bietet. AXCELIS Gemini GES ist der marktführende Ätzer/Ascher und bietet beispiellose Leistung, Effizienz und Zuverlässigkeit in der Halbleiterverarbeitung. Es ist ein wesentliches Werkzeug für die moderne Herstellung von Wafern und bietet die Fähigkeit, die Designs von morgen zu beeinflussen.