Gebraucht AXCELIS / FUSION MU #293767225 zu verkaufen

AXCELIS/FUSION MU ist ein fortschrittlicher Nassätzer/Ascher, der für die Halbleiterherstellung verwendet wird. Es wurde entwickelt, um extrem dünne Materialschichten im Nano- bis Submikron-Bereich zu ätzen und zu aschen. Zu den Hauptmerkmalen gehören Hochgeschwindigkeitsätzen mit präziser Kontrolle über Ätzparameter, eine breite Palette von Prozessrezepten und die Fähigkeit, in einer Vielzahl von Halbleiterherstellungsprozessen eingesetzt zu werden. FUSION MU verwendet einen einzigartigen plasmagestützten Ätzprozess, der es ermöglicht, sehr dünne Materialschichten mit sehr präzisen und konsistenten Ergebnissen zu ätzen. Es verwendet eine Elektronenzyklotronfrequenzquelle, um das Plasma zu erzeugen, das hochenergetische Ionen erzeugt, die materielle molekulare Bindungen abbauen, um sie zu ätzen. Dieses Verfahren ermöglicht das Ätzen von Materialien mit bis zu 20.000 Angström Dicke, mit extrem hoher Präzision und Gleichmäßigkeit. Es ermöglicht auch das Ätzen von sehr engen Merkmalen bis zu einem Zehntel Mikron Größe. AXCELIS MU führt nicht nur eine hochpräzise Ätzung durch, sondern kann auch zur Durchführung von Aschen verwendet werden. Asche ist die kontrollierte Entfernung von organischen Materialien von der Oberfläche eines Wafers mit einem gasförmigen Brenner. Dieses Verfahren erfordert nicht die Verwendung chemischer Ätzmittel, sondern verwendet einen plasmagestützten Aschevorgang, der von der gleichen Quelle wie der Ätzprozess angetrieben wird. Dies ermöglicht die Steuerung und Anpassung aller Aspekte des Ascheprozesses, von der Temperatur der Brennkammer bis zu ihrem oxidationsreduzierenden Gemisch. MU wurde speziell für schwierige Herausforderungen entwickelt. AXCELIS/FUSION MU verfügt über eine flexible Architektur, die sich einfach an eine Vielzahl von Fertigungsprozessen anpassen lässt. Die Kammer ist mit einem einzigen Gaseinlass, mehreren Auslässen und einer Reihe von Elektroden ausgelegt, die für die Durchführung von Ätzen und Aschen angepasst werden können. Die Ätzkammer wird durch unabhängige Wärmemanagementsysteme für optimierte Nachätzrampen beheizt und gekühlt. Auch die Verarbeitungsrezepte für Ätz- und Ascheprozesse lassen sich leicht an die spezifischen technologischen Anforderungen anpassen. FUSION MU verfügt über ein funktionsreiches Design, das eine außergewöhnliche Präzision und Kontrolle über Ätz- und Ascheprozesse bietet. Aufgrund seiner beeindruckenden Spezifikationen kann es in einer Vielzahl von Fertigungsprozessen eingesetzt werden, von der Herstellung fortschrittlicher Halbleiterbauelemente bis zum Ätzen und Aschen von Photomasken, Mikrochips und Röntgenmasken. Seine Flexibilität, Genauigkeit und Durchsatz machen es zu einem vorteilhaften und zuverlässigen Kapital für jede Halbleiterherstellungsumgebung.