Gebraucht CANON / ANELVA 4100 #9210331 zu verkaufen

CANON/ANELVA 4100 ist ein trockenes, hochfrequentes Ätz- und Aschegerät zum präzisen Ätzen und Aschen von Halbleiterbauelementen. Das System arbeitet mit einer Frequenz von 13,56 MHz und kann verwendet werden, um eine Reihe von Ätz- und Ascheprozessen wie SiO2-Strippen, Oxidöffnung, Oxidseitenwand und Bodenätzen und FGA-Entkapselung durchzuführen. Es wurde entwickelt, um einen hohen Anwendungsdurchsatz zu ermöglichen und wird typischerweise bei der Herstellung von Halbleiterbauelementen verwendet. CANON 4100 hat ein kompaktes Design mit einem niedrigen Profil, Seitenverkleidung Körper, ideal für Chip-Maßstab Ätzanwendungen, die hohe Präzision erfordern. Es verfügt auch über ein vollständiges Arbeitsdeck zum Be- und Entladen von Teilen und kann bis zu 8 separate Ätzzonen für eine verbesserte Prozesseffizienz steuern. Zusätzlich ist das Gerät mit vier Temperaturregelstufen ausgestattet, die es Anwendern ermöglichen, das Substrat vor dem Ätzen oder Aschen auf eine bestimmte Temperatur vorzuheizen und zu kühlen, während das modulare Prozesssteuerpult es einfach macht, Prozessparameter einzustellen und zu überwachen. ANELVA 4100 enthält mehrere Prozessüberwachungsfunktionen, einschließlich einer In-situ-Detektionsmaschine für Strom und Spannung, Gasflussmessung und Temperaturüberwachung. Dies trägt dazu bei, dass alle Prozesse genau durchgeführt werden und das geätzte Gerät gewünschte Ergebnisse erzielt. Darüber hinaus weist das Werkzeug eine Reihe von Sicherheitsmerkmalen auf, wie z.B. eine HF-Schildkammer zur Verhinderung von HF-Strahlung aus der Prozesskammer und eine in-situ HF-Überwachungseinrichtung zur Detektion einer möglichen HF-Leckage. 4100 ist ein vielseitiges, zuverlässiges Asset, das ein zuverlässiges, hochpräzises Ätzen und Veraschen von Halbleiterbauelementen ermöglicht. Das Low-Profile-Design und die In-situ-Prozessüberwachung sorgen für eine präzise Steuerung und Überwachung, während das modulare Prozesssteuerpult und vier Temperaturstufen es Anwendern ermöglichen, Ätz- und Ascheparameter für ihre Anwendung anzupassen. Dieses Modell ist ein ideales Werkzeug zur Herstellung von Halbleiterbauelementen mit hoher Genauigkeit und Effizienz.