Gebraucht CANON / ANELVA ECR-300E #9380734 zu verkaufen

CANON/ANELVA ECR-300E ist eine hochmoderne Ätz- und Aschevorrichtung für die Herstellung von Hochleistungshalbleiterbauelementen. Es ist ein kompaktes und hocheffizientes System mit einer Vielzahl von Standardfunktionen und Optionen, einschließlich fortschrittlicher Plasmaquellentechnologien. CANON ECR-300E bietet optimierte Sputterprozesse mit hervorragender Gleichmäßigkeit und Wiederholbarkeit und garantiert höchste Qualität und Produktivität. ANELVA ECR-300E bietet bis zu 600mm Wafer-Kompatibilität und verfügt über eine einzigartige fünfstufige Flachwafer-Transporteinheit, die Wafer ohne manuellen Eingriff durch unabhängige Prozesskammern transportieren kann. Die Wafertransportmaschine ist so konzipiert, dass sie eine maximale Prozessgewinnung ermöglicht und Waferschäden oder Kontaminationen durch Überbearbeitung verhindert. Die Mehrprozesskammerarchitektur bietet zudem eine dynamische Waferregelung während des gesamten Sputterprozesses, die eine dynamische Optimierung des Ionenbeschusswinkels und der Substratvorspannung ermöglicht. Darüber hinaus verfügt ECR-300E über eine Konfiguration von Ultrahochfrequenzbereich bis zu 200MHz sowie eine Reihe von erweiterten Sputterquellen, einschließlich Magnetron (DC und RF) und extrem hochdichte Plasma (EHD) Multizielquellen. CANON/ANELVA ECR-300E ist in der Lage, monochromatische oder polychromatische Filme mit einer oder zwei Quellen gleichzeitig zu produzieren, und kann auch Plasma-Dotierungsanwendungen behandeln. Das Werkzeug umfasst außerdem mehrere Prozesssteuerungs- und Überwachungsfunktionen, die eine präzise Steuerung von Prozessparametern wie Prozessdruck, Temperatur und Leistung ermöglichen. CANON ECR-300E verfügt über eine einzigartige zweistufige Flüssigkeitsströmungskühlung, die für optimale Prozesstemperaturen sorgt und für Tieftemperatur- und Tieftemperaturglühung eingesetzt werden kann. Das Modell bietet auch eine geschlossene Kühlung für eine höhere Präzisionskontrolle sowie eine automatisierte Rezeptmanagement-Ausrüstung für einen einfachen Prozessaufbau. Darüber hinaus verfügt ANELVA ECR-300E über leistungsstarke automatische Gaskontrollfunktionen, die eine hochpräzise Qualitätskontrolle ermöglichen. ECR-300E wurde entwickelt, um die höchsten Industriestandards für optimale Leistung und Zuverlässigkeit über viele Jahre des Betriebs zu erfüllen. Das System wird auch durch eine vollständige Palette von Service und Support unterstützt, einschließlich Ersatzteile, Wartungsverträge und umfassenden technischen Support. CANON/ANELVA ECR-300E ist ideal für alle hochsicheren Ätz- und Ascheprozesse und bietet Qualität und Effizienz für eine Vielzahl von Anwendungen zur Herstellung von Halbleiterbauelementen.