Gebraucht CANON / ANELVA I-4100 SVII #9158755 zu verkaufen

CANON/ANELVA I-4100 SVII ist eine Ätzmaschine, die für präzises Plasmaätzen, Waschen und Waferbearbeitung entwickelt wurde. Dies ist ein hocheffizientes Instrument, das zu einer führenden Wahl für die Halbleiterwaferbearbeitung für viele Anwendungen geworden ist. Das Instrument verfügt über einen modularen Aufbau für maximale Flexibilität, so dass vier Kammern nacheinander angeschlossen werden können, ohne dass eine umfangreiche Nachschaltung der Verdrahtung erforderlich ist. Die vier Kammern sind mit einer intuitiven Steuerungsausrüstung verbunden, so dass automatisierte Prozesse mühelos erstellt und überwacht werden können, was für Genauigkeit und Gleichmäßigkeit in jedem Prozess sorgt. Das Instrument verfügt über ein vollständig platzsparendes Design, das einen begrenzten Platz ohne Leistungseinbußen ermöglicht. Das Ätzgerät ist mit einem Hochfrequenzantrieb (HFD) und einem Hochspannungsnetzteil (HVPS) ausgestattet. Die HFD läuft bei 500kHz und gibt dem Instrument die Kraft, eine Vielzahl von Plasmabearbeitungsanwendungen auf einer Reihe von Wafern durchzuführen. Das System verfügt außerdem über eine Uniform Processing Unit (UPS), die eine gleichmäßige Plasmabearbeitung über eine Reihe von Wafern ermöglicht. CANON I-4100 SVII ist mit Blick auf Sicherheit und Wartung konzipiert, mit einer integrierten Sicherheitssonde und Reverse Control Machine, die die Sequenzierung und den Status des Ätzers überwacht. Eine Reihe von Zubehör macht dieses Instrument Art für die Umwelt, mit einem speziellen Entlüftungswerkzeug Beseitigung von Abgasen und Dämpfen aus dem Arbeitsbereich. Das Design dieses Ätzers ermöglicht präzise und reproduzierbare Prozesse, wodurch die Variation von Teil zu Teil reduziert wird. Das Instrument verfügt über ein erweitertes Software-Asset, das für jeden Prozess eine individuelle Einrichtung, Synchronisation und Kontrolle ermöglicht. Mit der Möglichkeit, Prozesse zu automatisieren und Zeitverschwendung zu begrenzen, ist ANELVA I-4100 SVII eine ideale Wahl für die Halbleiterwaferbearbeitung.