Gebraucht CANON / ANELVA ILD 4100 #9262531 zu verkaufen

CANON/ANELVA ILD 4100 Ätzer/Ascher ist eine fortschrittliche Plasma-Technologie-Ausrüstung zum Ätzen und Waschen von Wafern, Resists, Polymeren, Dielektrika und anderen Materialien, die in der Halbleiterindustrie verwendet werden. Es ist mit einer Kammer ausgestattet, die mit einem Plasmareaktor, einer isolierenden Plasmahülle und einem Nitrid-Abscheidungssystem ausgestattet ist. Die Ionenquelle des Geräts ist ein linearer Ionenbeschleuniger, der Ionen verschiedener Materialien auf Geschwindigkeiten von 250 Volt pro cm beschleunigen kann, während er bei reduzierter Leistung ist. Die Maschine verfügt über eine variable Gasdusche, um eine kontrollierte Umgebung für präzise Ätz- und Ascheprozesse zu schaffen. Darüber hinaus verfügt CANON ILD 4100 über eine breite Hydraulikkammer und ein Gaszirkulationswerkzeug mit geschlossenem Kreislauf, das es dem Asset ermöglicht, eine konstante Ionenkonzentration aufrechtzuerhalten und dabei gleichmäßige Ätz- und Aschetiefen zu erhalten. Das Modell eignet sich für eine Vielzahl von Ätz- und Ascheprozessen. Dazu gehören Grabenätzen, Isolierätzen und Oberflächenpassivierungsätzen. Es funktioniert auch für Oberflächenprofilmodifikationen, wie flaches und tiefes Laserglühen, Oberflächenbehandlung, Schichtung, Metallabscheidung und Ionenimplantation. Darüber hinaus ist ANELVA ILD-4100 in der Lage, hochgenaue Ätz- und Ascheprozesse mit hoher Reproduzierbarkeit und Wiederholbarkeit durchzuführen. ILD-4100 bietet eine integrierte Ionenstrahl-Implantations- und Photolithographie-Ausrüstung, mit der photolithographische Prozesse in situ mit dem Ätzen und Aschen durchgeführt werden können. Die Steuereinheit des Systems ist einfach zu bedienen und ermöglicht es dem Bediener, verschiedene Parameter anzupassen, um die Prozessergebnisse zu verbessern. Die Maschine ist auch mit verschiedenen Sicherheitsmerkmalen, wie einem Inertgassicherungswerkzeug, und anderen Funktionen ausgestattet, um die Kammer- und Asset-Komponenten vor Kontamination zu schützen. Das Modell ist in der Lage, eine breite Palette von Gasen zu unterstützen, von Stickstoff über Xenon und Sauerstoff. Die Anlagen können auch in bestehende Prozesse wie Reinigung, CVD-Prozesse (Chemical Vapor Deposition) und andere In-situ-Prozesse integriert werden, was die Kompatibilität mit branchenüblichen Verfahren ermöglicht. ILD 4100 ist in der Lage, hochwertige Teile mit außergewöhnlichen Erträgen zu produzieren, ohne auf Produktionsgeschwindigkeit oder Kosten zu verzichten. Es ist auch sehr zuverlässig, langlebig, einfach zu warten und kompatibel mit aktuellen Branchenpraktiken und Geräten. Insgesamt ist ANELVA ILD 4100 ein fortschrittliches Ätz- und Aschensystem, das sich ideal für eine Vielzahl von Plasmaätz- und Ascheprozessen in der Halbleiterindustrie eignet. Es bietet präzise Steuerung, Flexibilität und Wiederholbarkeit sowie hervorragende Sicherheitsmerkmale. Dank seiner Fähigkeiten ist es eines der zuverlässigsten und benutzerfreundlichsten Ätz- und Aschesysteme auf dem Markt.