Gebraucht CANON / ANELVA ILD 4100SR #9374944 zu verkaufen

CANON / ANELVA ILD 4100SR
ID: 9374944
Dry etchers.
CANON/ANELVA ILD 4100SR ist eine Ätz-/Ascherausrüstung für verschiedene Arten von physikalischen Ätz- und Ascheprozessen. Es ist ein Hochleistungs-Ätz-/Aschesystem, das eine induktiv gekoppelte Plasmaquelle (ICP) verwendet, um ein Plasma zu induzieren. Dieses Plasma wird dann zum Ätzen und Aschen von Scheiben verschiedener Art und Größen verwendet. CANON ILD-4100SR ist in der Lage, bis zu 8 x 8 Zoll Wafer zu verarbeiten. ANELVA ILD-4100 SR ist eine Einheit mit einer mehrstufigen Gasregelstruktur zum präzisen Ätzen und Aschen der Wafer. Diese Maschine verfügt über eine 3-Zonen-Gassteuereinheit, die Gassteuerzone verwendet wird, um stabile Ätz- und Ascheergebnisse zu gewährleisten. Die Gassteuereinheit hilft auch, die Erzeugung von Partikeln innerhalb der Ätz-/Aschekammer zu reduzieren. CANON/ANELVA ILD-4100 SR verwendet ein optisch betätigtes Spritzschutzwerkzeug (OAP), um Substrat und Komponenten zu schützen, indem das Risiko einer Interaktion von Funken mit anderen Komponenten reduziert wird. Diese Ressource trägt dazu bei, dass Ablagerungen und Ätzungen in der optimalen Umgebung erfolgen und dass kritische Bereiche oder empfindliche Komponenten nicht beschädigt werden. ILD-4100 SR-Modell verfügt auch über Experimente mit geschlossener Schleife zur ultrapräzisen Parameterverfolgung. Auf diese Weise können Anwender auch während der tatsächlichen Prozessabläufe schnell und präzise mit Prozesskontrollparametern experimentieren und so das Beste aus ihren Ätz- und Ascheprozessergebnissen machen. CANON ILD 4100 SR ist eine eigenständige Ausrüstung, die über ein automatisiertes Be- und Entladesystem verfügt, um den Ätz- und Veraschungsprozess zu optimieren. Diese automatisierte Einheit reduziert die Bearbeitungs- und Rüstzeit und sorgt dafür, dass die Wafer unter optimalen Bedingungen geätzt und adert werden. Insgesamt ist ILD 4100 SR eine Hochleistungs-Ätz-/Aschermaschine, die für verschiedene Arten von physikalischen Ätz- und Ascheprozessanwendungen entwickelt wurde. Dieses Tool verfügt über eine ICP-Quelle, eine 3-Zonen-Gassteuereinheit, ein optisch betätigtes Splash Protection Asset (OAP), ein Closed-Loop Experiments Feature und ein automatisiertes Be- und Entlademodell für optimierte Ätz- und Veraschungsergebnisse.
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