Gebraucht CORIAL ICP Etcher #293758417 zu verkaufen

CORIAL ICP Etcher ist eine hochmoderne Plasmaätzanlage zur präzisen und effizienten Entfernung von Materialschichten von Halbleitersubstraten. Dieses innovative Tool integriert induktiv gekoppelte Plasma (ICP) -Technologie mit fortschrittlichen Prozesssteuerungsfunktionen, um überlegene Ätzleistung und außergewöhnliche Prozessgleichmäßigkeit in einer Vielzahl von Materialien und Anwendungen zu bieten. Im Kern des ICP Etcher liegt seine hochdichte Plasmaquelle, die durch eine hochfrequente (RF) Stromversorgung erzeugt wird, die mit einer Spule gekoppelt ist, die ein starkes elektromagnetisches Feld in der Prozesskammer induziert. Diese ICP-Quelle erzeugt ein hochgradig ionisiertes und energetisches Plasma, das für die Erzielung hoher Ätzraten unter Beibehaltung einer ausgezeichneten Selektivität und Seitenwandprofilkontrolle unerlässlich ist. Die ICP-Quelle arbeitet unabhängig vom Prozessdruck und ermöglicht eine präzise Abstimmung von Ionenenergie und Direktionalität, um Ätzparameter für verschiedene Materialien und Geometrien zu optimieren. Der Plasmaätzprozess in CORIAL ICP Etcher beinhaltet die Wechselwirkung von reaktiven Gasmolekülen und Ionen mit der Substratoberfläche, was durch eine Reihe komplexer Reaktionen zur physikalischen und chemischen Entfernung von Materialschichten führt. Das System ist mit einer Gasfördereinheit ausgestattet, die eine präzise Steuerung von Prozessgasen wie Ätzmitteln, Vorstufen und Verdünnungsmitteln ermöglicht, um die Ätzchemie und Selektivität für bestimmte Materialstapel und Gerätestrukturen anzupassen. Darüber hinaus verfügt die Maschine über eine spezielle Gaseinspritzduschkopfkonstruktion, die eine gleichmäßige Gasverteilung und eine effiziente Spülung von Nebenprodukten während des Ätzprozesses gewährleistet. ICP Etcher bietet eine breite Palette von Ätzmodi, einschließlich isotropes, anisotropes und hybrides Ätzen, um verschiedenen Gerätedesigns und Musteranforderungen gerecht zu werden. Die Prozesskammer des Werkzeugs ist mit einem elektrostatischen Spannfutter (ESC) ausgestattet, das das Substrat beim Ätzen sicher hält und eine effiziente Wärmeübertragung zur Temperaturregelung erleichtert. Der ESC kann vorbelastet werden, um Substratladeeffekte zu steuern und die Ätzgleichmäßigkeit über die Waferoberfläche zu verbessern. Um eine präzise Prozesssteuerung und -überwachung zu gewährleisten, ist der CORIAL ICP Etcher mit einem ausgeklügelten Plasma-Impedanzanpassungsnetz und einer HF-Leistungssteuerung ausgestattet, die die an die ICP-Quelle gelieferte Leistung basierend auf Plasmabedingungen und Prozessanforderungen kontinuierlich anpasst. Das Modell verfügt auch über Echtzeit-Endpunktdetektionsmöglichkeiten, wie optische Emissionsspektroskopie (OES) und Laserinterferometrie, um Ätzraten genau zu überwachen und den Abschluss des Ätzprozesses zu erfassen. Neben seinen fortschrittlichen Prozessfähigkeiten ist ICP Etcher mit einer benutzerfreundlichen Software-Oberfläche und einer intuitiven Rezeptverwaltungsausrüstung ausgestattet, die eine einfache Einrichtung und Optimierung von Ätzprozessen ermöglicht. Die Automatisierungsfunktionen des Systems ermöglichen die Verarbeitung von Substraten mit hohem Durchsatz mit minimalem Eingriff des Bedieners und sind somit eine ideale Lösung für Forschungs- und Produktionsumgebungen. Insgesamt stellt CORIAL ICP Etcher ein hochmodernes Plasmaätzwerkzeug dar, das modernste Technologie mit fortschrittlichen Prozesssteuerungsfunktionen kombiniert, um überlegene Ätzleistung und Prozessflexibilität für eine breite Palette von Halbleiterherstellungsanwendungen zu bieten.