Gebraucht DENTON VACUUM Infinity FA #293798635 zu verkaufen
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ID: 293798635
Ion Beam Etcher (IBE)
ICP RF source: 12, 14 cm
Single wafer load lock
Turbo pump
SIMS
ESD
Substrate stage:
Water-cooled stage
Device: 10x10 mm
Wafers diameter: Up to 4"
Rotation speed: 0-20 RPM
Tilt angle: 0°-90°
Substrate fixture, 8": < ±3%
Run-to-run repeatability: ≤ ±3%.
Einführung DENTON VACUUM Infinity FA ist eine hochmoderne Ätz-/Aschermaschine für die präzise und gleichmäßige Plasmabearbeitung von Substraten. Dieses vielseitige Tool kombiniert fortschrittliche Technologie mit benutzerfreundlichen Funktionen, um leistungsstarke Ergebnisse in einer Vielzahl von Anwendungen in Halbleiter-, MEMS, Optik- und anderen Branchen zu liefern. Mit seinem innovativen Design und seinen innovativen Fähigkeiten ist Infinity FA ein unverzichtbares Werkzeug für Forschung und Entwicklung sowie Serienumgebungen. Hauptmerkmale DENTON VACUUM Infinity FA verfügt über eine robuste und zuverlässige Vakuumkammer, die für die Aufrechterhaltung eines extrem hohen Vakuumniveaus für eine optimale Prozesskontrolle und Wiederholbarkeit ausgelegt ist. Die Kammer ist mit einer Reihe fortschrittlicher Sicherheitsfunktionen ausgestattet, einschließlich Überdruckschutz, Vakuumverriegelungen und Nothaltefunktionalität, um die Sicherheit des Bedieners während des Betriebs zu gewährleisten. Die Kammer verfügt auch über schnell zugängliche Ports für einfache Wartung und Wartung, Minimierung von Ausfallzeiten und Maximierung der Produktivität. Das Herz von Infinity FA ist seine fortschrittliche Plasmaquelle, die ein hochgleichmäßiges Plasma über die gesamte Substratoberfläche erzeugt. Diese Plasmaquelle wird von einem hochfrequenten HF-Generator gespeist, der eine präzise Steuerung von Prozessparametern wie Leistung, Gasfluss und Druck ermöglicht. Der HF-Generator ist mit automatischen Anpassungsnetzwerken und Impedanzabstimmungsfunktionen ausgestattet, um eine maximale Energieübertragungseffizienz und einen stabilen Plasmabetrieb zu gewährleisten. DENTON VACUUM Infinity FA verfügt zudem über ein vielseitiges Gasfördersystem, das eine präzise Steuerung von Prozessgasen und -gemischen ermöglicht. Das Gerät umfasst Massenstromregler zur genauen Gasflussregelung sowie eine Multi-Gas-Injektionsmaschine zur Erstellung kundenspezifischer Gasgemische. Diese Flexibilität ermöglicht es Anwendern, die Plasmachemie auf ihre spezifischen Anforderungen abzustimmen, egal ob sie empfindliche Materialien ätzen oder dünne Filme abscheiden. Zusätzlich zu seinem fortschrittlichen Plasmaquellen- und Gaslieferwerkzeug ist Infinity FA mit einer Reihe von Prozessüberwachungs- und Steuerungswerkzeugen ausgestattet, um konsistente und zuverlässige Ergebnisse zu gewährleisten. Diese Werkzeuge umfassen die optische Emissionsspektroskopie (OES) zur Echtzeitüberwachung von Plasmasorten sowie Endpunktdetektionsmöglichkeiten zur präzisen Steuerung von Ätz- und Ascheprozessen. Das Asset verfügt auch über eine fortschrittliche Rezept-Management-Software, die es Benutzern ermöglicht, komplexe Prozesssequenzen für den einfachen Abruf und die Ausführung zu programmieren und zu speichern. Anwendungen DENTON VACUUM Infinity FA eignet sich hervorragend für eine Vielzahl von Plasmabearbeitungsanwendungen, darunter reaktives Ionenätzen (RIE), plasmaverbesserte chemische Dampfabscheidung (PECVD) und Plasmaspülung. Sein vielseitiges Design und seine fortschrittlichen Fähigkeiten machen es zu einem idealen Werkzeug für Forschungslabore, Universitäten und Produktionsstätten, die an modernsten Technologien in den Bereichen Halbleiter, MEMS, Optik und Nanotechnologie arbeiten. Fazit Infinity FA ist ein hochentwickeltes Ätz-/Aschermodell, das eine beispiellose Leistung, Flexibilität und Zuverlässigkeit für eine breite Palette von Plasmabearbeitungsanwendungen bietet. Das innovative Design, die modernste Technologie und die benutzerfreundlichen Funktionen machen es zu einem wertvollen Werkzeug für Forscher, Ingenieure und Hersteller, die in einer kontrollierten Vakuumumgebung präzise und wiederholbare Ergebnisse erzielen möchten. Ob Sie an der Entwicklung von Halbleiterbauelementen der nächsten Generation arbeiten oder Grundlagenforschung in der Materialwissenschaft betreiben, DENTON VACUUM Infinity FA ist die ideale Wahl für alle Ihre Anforderungen an die Plasmabearbeitung.
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