Gebraucht ESC ELAS #9131115 zu verkaufen
URL erfolgreich kopiert!
Tippen Sie auf Zoom
ID: 9131115
Wafergröße: 6"-8"
RF / DC Sputtering system, 6"-8"
RF Magnetron
RF Diode operation
Loadlock cryo pump, 8"
Chamber, 10"
Rectangular
Heliarc welded
304 Stainless steel plate: 16 mm
View-port: Pyrex window
Pump-out port: 225 mm Diameter
Load lock:
2-Level elevator
Non-coated pallets loaded on upper level
Processed pallets unloaded from lower level
VITON O-ring
Feedthrough:
Linear bellows
Magnetically coupled drive
Drive:
Hydraulics
Low pressure drive
Motion:
Loading and unloading
Fully-automatic computer controlled
Capacity:
Diameter wafers: 6-150 mm
Diameter wafers: 4-200 mm
Drive:
Precision DC motor
With optical encoder feedback control
Chain drive
Labyrinth shielded
Option: DC Bias / RF Bias
Coating speed: 3-350 cm/min, Bi-directional
Vacuum system:
Load lock
CTI-CRYOGENICS Cryo-Torr 8 Vacuum pump
Vacuum valve: 6" ASA (7-1/8" Diameter) Gate valve
Electro-pneumatic operation
Valves: 1-1/2" Bellows sealed
Electro-pneumatic operation
Roughing pump: 27 CFM (762 l/min)
With process chamber
Main chamber:
CTI-CRYOGENICS Cryo-Torr 10 Vacuum pump
Vacuum valve: ASA Gate valve, 10"
Electro-pneumatic operation for gas throttling
Load lock and cryo regeneration: 27 CFM Mechanical pump
Anti-back-streaming trap for mechanical pump
1-1/2" Bellows sealed electro-pneumatic operation
Etch platform:
Moves vertically to engage / Disengage the pallet
Cooling: Water-cooled
Material: Stainless steel
Insulator: Pyrex
Dark space shield: Stainless steel
Residual gas analyzer
RF Generator:
Continuously-rated and specifically designed for sputtering: 1 kW
ISM Frequency: 13.56 MHz
FCC and OSHA
DC Magnetron power supply:
ADVANCED ENERGY Pinnacle Power supply, 12 kW
System performance specifications:
Process parameter control ranges:
Description / Minimum / Maximum / Units
Sputtering pressure / 1 / 90 / Millitor
Scan speed (bi-directional) / 3 / 350 / cm/min
DC Sput / 100 / 12,000 / Watts
RF Sput / 0.02 / 2.10 / kVA
- / 0.1 / 2.00 / kW
Etch revel (Note 2) / 0.02 / 1.50 / kVA
- / 0.1 / 1.50 / kW
DC Bias capability:
Internal mechanism: DC Power
DC Bias activated during DC sputtering
Power supplies: 150 V.
ESC ELAS ist eine elektrochemische Ätz-/Ascheausrüstung, die den Anforderungen an das Präzisionsätzen moderner Dünnschichtelektronik gerecht wird. Es ist ein robustes und hocheffizientes Ätzsystem, das hochdichte, gepulste Gleichspannungsleistung für schnelle, gleichmäßige Prozesse nutzt. Das Gerät ist für eine Vielzahl von Ätzanwendungen konzipiert, darunter ätzbare Dünnschichtmaterialien wie Metalle, Oxide und Polymere. Das Verfahren ist in der Lage, eine Ätzrate von bis zu mehreren hundert Nanometern pro Minute zu erreichen, mit sehr genauer Kontrolle über Selektivität, Tiefe, Linienbreite und Oberflächenrauhigkeit. ELAS Maschine basiert auf bewährter Technologie, die einen hermetisch abgedichteten, mit Kupfer ummantelten Torso zur Isolierung und Korrosionsbeständigkeit umfasst. Das Gerät ist außerdem mit einem integrierten Heizelement zur Aufrechterhaltung einer stabilen Temperatur und einer leistungsgeregelten Ätzkammer mit selbstjustierender Druckeinstellung ausgestattet. Dies gewährleistet einheitliche Ätzvorgänge und erleichtert äußerst präzise wiederholbare Ergebnisse. Um eine optimale Ätzrate zu erreichen, verwendet das Werkzeug eine Vielzahl von Ätzagenturen, einschließlich chemischer Dampfabscheidung oder CVD, und Hochtemperaturofenprozesse. Eine separat gesteuerte, inerte Atmosphäre ermöglicht längere Ätzzeiten und erzeugt tiefere Ätzungen. Alternativ können mit Plasmaätzen in Vakuumumgebung kurzzeitige Ätzungen mit höherem Wirkungsgrad erreicht werden. ESC ELAS Asset kann eine breite Palette von Wafergrößen verarbeiten, von kleinen, chipgroßen Stücken bis hin zu großen, rechteckigen Platten. Es ist auch mit einer XYZ-Stufe ausgestattet, die eine präzise Platzierung und Fixierung des Arbeiters während der Verarbeitung ermöglicht. Das Modell enthält auch E-Beam und Röntgenätzprozess, für genauere Ätzergebnisse. Alle diese Funktionen kombinieren, um ELAS zu einer ausgezeichneten Wahl für Präzisionsätzanforderungen zu machen. Das Gerät ist sehr zuverlässig und in der Lage, konstant qualitativ hochwertige Ätzergebnisse zu erzielen. Darüber hinaus ermöglicht es Anwendern, den Ätzprozess durch eine fortschrittliche Diagnose kontinuierlich zu überwachen und bietet eine hohe Reproduzierbarkeit der Ergebnisse. Daher ist es ideal für hochpräzise Elektronikproduktionsanwendungen im Industriemarkt.
Es liegen noch keine Bewertungen vor