Gebraucht GASONICS / NOVELLUS Aura 2000 #9247828 zu verkaufen

ID: 9247828
Wafergröße: 8"
Asher, 8" Model no: 99-0339 Install type: Tabletop Machine runtime: 11,028 Hours Filament runtime: 16,005 Hours Wafer passes: 7132 Includes: AURA 2000LL PR Strip BOC EDWARDS NGH425100 Main chamber pump BOC EDWARDS iQDP40 LL Pump Microwave generator: NATIONAL ELECTRONICS A95-045-01-E Position: Main chamber Gas line / Gas / MFC Make / MFC Model 1 / O2 / HONEYWELL / MIDAS-E-LEL 2 / N2H2 / HONEYWELL / MIDAS-E-LEL.
GASONICS/NOVELLUS Aura 2000 ist ein Ätzer/Ascher, der für eine Vielzahl von Anwendungen wie Photolithographie, Herstellung von Halbleiterbauelementen und Verpackungen auf Waferebene verwendet wird. Es wurde entwickelt, um Strukturen bei kleinen Funktionsgrößen präzise zu ätzen und gleichzeitig saubere Seitenwände im Ätzprozess zu erhalten. Der Ätzvorgang erfolgt in einer Vakuumkammer, so dass er sich ideal für Niedertemperaturprozesse eignet, bei denen keine Schutzdecke aus Umgebungsluft benötigt wird. GASONICS Aura 2000 nutzt eine Vielzahl von Technologien, um die gewünschten Endergebnisse zu erzielen. Dazu gehören ein laserinduziertes Plasmaätzverfahren, Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD) -Verfahren, Ionenstrahlätzen und ein Bereich der nachgeschalteten Verarbeitung. Das laserinduzierte Plasmaätzverfahren erzeugt ein präzises Ätzmuster mit einem Laserstrahl und einem Inertgasplasma. Es erzeugt eine scharfe, saubere Linie ohne Kantenrauhigkeit, perfekt für komplexe Merkmale. PECVD-Verfahren ermöglichen die Niedertemperaturabscheidung von Siliziumoxiden und anderen Materialien in einer Vakuumumgebung. Dieses Verfahren ist ideal für die Schaffung schwieriger Strukturen, die mit herkömmlichen Techniken nicht möglich sind. Ionenstrahlätzen dient zur Feinabstimmung des Ätzprozesses, indem Energie, Richtung und Geschwindigkeit der Ionen im Prozess gesteuert werden. Es ist besonders effektiv für hohe Seitenverhältnisse (HAR) und Submikronstrukturen. Schließlich kommt NOVELLUS Aura 2000 mit einer ganzen Reihe von nachgelagerten Prozesslösungen. Dazu gehören Nachätzreinigung, Seitenwandpassivierung, Folienoptimierung und Materialanalyse. Dies ermöglicht eine schnelle und präzise Kontrolle des Ätzprozesses, was zu perfekten Ergebnissen führt. Zusammenfassend ist Aura 2000 eine leistungsstarke Ätz- und Aschemaschine, die ein präzises, sauberes Ätzmuster bei kleinen Funktionsgrößen erzeugt. Es verwendet eine Kombination aus laserinduzierter Plasmaätzung, PECVD-Prozessen und Ionenstrahlätzen zusammen mit der nachgelagerten Verarbeitung an Bord, um perfekte Ergebnisse zu erzielen.
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