Gebraucht GASONICS / NOVELLUS Aura 2000 #9247831 zu verkaufen

ID: 9247831
Wafergröße: 8"
Asher, 8" Model no: 99-0339 Install type: Tabletop Machine run time: 17,803 Hours Filament run time: 573 Hours Wafer passes: 10191 Includes: AURA 2000LL PR Strip BOC EDWARDS NGH425100 Main chamber pump BOC EDWARDS iQDP40 LL Pump Microwave generator: NATIONAL ELECTRONICS A95-045-01-E Position: Main chamber Gas line / Gas / MFC Make / MFC Model 1 / O2 / HONEYWELL / MIDAS-E-LEL 2 / N2H2 / HONEYWELL / MIDAS-E-LEL.
GASONICS/NOVELLUS Aura 2000 ist eine Art Ätz-/Aschermaschine, die mit einer Hochfrequenz- (HF) -Stromquelle gleichzeitig die Tiefen von Merkmalen in mehr als einem Halbleiterwafer ätzen und reinigen kann. Dieses System ist so konzipiert, dass es sowohl Ätz- als auch Reinigungsfunktionen ausführt, ohne dass ein Substrat oder eine Vorbehandlung erforderlich ist. Im Ätzprozess ist die Energiequelle in der Regel eine HF-Welle, die vom Magnetron der Einheit erzeugt wird. Bei der Reinigung wird ein unberührtes Gas wie Argon verwendet, um die aus dem Ätzprozess entstandenen Schlackepartikel zu entfernen. GASONICS Aura 2000 Maschine zeichnet sich durch ein hohes Maß an Prozesskontrolle und Gleichmäßigkeit aus, was auf die fortschrittliche Breitflächenplasmaquellentechnologie zurückzuführen ist. Diese Technologie stellt sicher, dass die HF-Frequenz gleichmäßig über das Substrat verteilt ist, wodurch ein gleichmäßiges Ätzen und Reinigen gewährleistet ist. Darüber hinaus ermöglicht die tiefe Plasmaquelle das Ätzen und Reinigen von Eigenschaftstiefen größer als 75 Nanometer. Das extrem geräuscharme Design ermöglicht auch erfolgreiche Reinigungsergebnisse, auch in sehr kleinen Funktionsgrößen. Darüber hinaus verfügt NOVELLUS Aura 2000 über mehrere fortschrittliche Technologien, die es Anwendern ermöglichen, die Prozessleistung zu maximieren. Beispiele für diese Funktionen sind Hochgeschwindigkeitsverarbeitung, Hochreinheitsbetrieb, erweiterte Hardware- und Softwaresteuerungsfunktionen, Hochgeschwindigkeitszykluszeiten und Fernüberwachungsfunktionen. Mit seinem umfassenden Steuerungspaket können Anwender Prozessparameter einfach überwachen und anpassen, um einen konsistenten Durchsatz zu gewährleisten. Das fortschrittliche Design von Aura 2000 ermöglicht es Benutzern auch, das Tool an ihre speziellen Bedürfnisse anzupassen. Diese Anpassbarkeit ermöglicht es Benutzern, Gasströme, HF-Leistungen und andere Parameter anzupassen, um die besten Ergebnisse zu erzielen. Darüber hinaus bieten seine große Kammer und fortschrittliche Heiz- und Kühlmechanismen eine Temperaturregelung, um die Hardwareleistung weiter zu optimieren. Insgesamt ist GASONICS/NOVELLUS Aura 2000 ein fortschrittliches Etcher/Asher-Asset mit einer breiten Palette von Funktionen und Fähigkeiten. Die HF-Stromquelle, die Breitflächenplasmaquelle und die anpassbaren Funktionen machen es zu einem idealen Werkzeug zum Ätzen und Reinigen von Halbleiterscheiben. Seine hohe Prozesskontrolle und Einheitlichkeit ermöglichen es Benutzern, ihre Produktivität zu maximieren, während seine fortschrittlichen Hardware- und Softwarefunktionen Benutzern eine umfassende Kontrolle über den Prozess bieten. Durch die Verwendung von GASONICS Aura 2000 können Anwender leicht Ätz- und Reinigungstiefen von mehr als 75 Nanometern erreichen und erfolgreiche Ergebnisse erzielen.
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