Gebraucht GASONICS / NOVELLUS Aura 2000LL #293749487 zu verkaufen

GASONICS/NOVELLUS Aura 2000LL ist ein fortschrittlicher Ätzer, der den hohen Anforderungen der ultrakomplexen Halbleiterverarbeitung gerecht wird. GASONICS Aura 2000LL ist auf einer Industriestandard-Plattform aufgebaut und kann sowohl große als auch kleine Substrate sowie hochspezialisierte Substrate wie MEMS-Geräte handhaben. Es verwendet einen Gascluster-Ionenstrahl (GCIB), um Ionen zu liefern, die Material auf nanoskaliger Ebene ätzen und abscheiden. Dies ermöglicht es Herstellern, die gewünschte Maßhaltigkeit und hervorragende Oberflächenqualität zu erreichen, die für fortschrittliche, Spitzenprozesse erforderlich ist. NOVELLUS AURA 2000 LL nutzt eine Verdampfungsquelle, die mit präzise mikronisierten Materialpartikeln gefüllt ist, die in einem Inertgas suspendiert sind. Dadurch wird sichergestellt, dass das Material gleichmäßig über das gesamte Substrat verteilt ist und dass das Material frei von Oxidation oder anderen Verunreinigungen bleibt. Die GCIB-Gascluster-Ionen werden dann auf das Substrat geleitet, um ein Ätzen oder Abscheiden des Materials zu ermöglichen. Dieser Prozess wird von Sensoren überwacht, die in der gesamten Anlage aufgebaut sind, so dass Verfahrenstechniker den gesamten Ätz- und Abscheidungsprozess überwachen können, um die gewünschten Endergebnisse zu erzielen. Das GCIB ermöglicht auch eine Manipulation des Ätz- oder Abscheideprozesses, um eine beispiellose Genauigkeit hinsichtlich Materialabtrag und Mustererzeugung zu erreichen. Die Echtzeit-Abstimmfunktion ermöglicht eine komplexe Strukturierung auf dem Substrat und ermöglicht die Erzielung von Ergebnissen, die bei herkömmlichen Verfahren sonst nicht möglich sind. Die Genauigkeit und Präzision der Aura 2000LL sind durch jedes andere Ätzsystem, das heute auf dem Markt erhältlich ist, unvergleichlich. Dies ist auf seine fortschrittlichen, proprietären Prozesssteuerungsalgorithmen sowie seine Präzisionsprozesssteuerung und Materialabscheidungsfähigkeit zurückzuführen. Dies führt zu überlegenen Produkterträgen und verschärften Prozesskontrollen im Vergleich zu herkömmlichen Ätzsystemen. Für maximale Effizienz verfügt AURA 2000 LL über eine integrierte, automatisierte Wafer-Reinigungseinheit. Diese Maschine verfügt über einen integrierten Roboterarm, der eine automatisierte Waferreinigung ermöglicht und auch für spezifische Anforderungen an die Substratreinigung und -wäsche angepasst werden kann. In Kombination mit fortschrittlicher Technologie und unübertroffener Prozessgenauigkeit ist GASONICS AURA 2000 LL ein wesentliches Werkzeug, um überlegene Geräteleistungen und Kosteneinsparungen zu erzielen. Es ist ideal für eine Vielzahl fortschrittlicher Halbleiterverarbeitungsanwendungen, die unübertroffene Genauigkeit und Zuverlässigkeit erfordern.